全反射X射線螢光分析

利用原級X射線束能在樣品表面產生全反射激發進行X射線螢光分析的裝置和方法。它是一種極微量樣品（納克級）的超痕量多元素表面分析技術。

基本介紹

• 中文名：全反射X射線螢光分析
• 外文名：total reflection X-ray fluorescence
• 學科：岩礦分析與鑑定
• 簡稱：TRXF

學科：岩礦分析與鑑定

詞目：全反射X射線螢光分析

英文：total reflection X-ray fluorescence(TRXF)

釋文：由於採用全反射X射線激發，散射本底極低，檢出限可低至10^-7～10^-I2克。由於其取樣量小、檢出限低的優勢，克服了常規XRF取樣量大、靈敏度低這些最明顯的缺陷，因而常用來解決地學、材料、微電子、環境、生物醫學、刑偵和考古等學科中超微量樣品的超痕最元素分析的難題。同步輻射全反射X射線螢光具有更優越的性能。