刻蝕作用

大量帶電粒子受垂直於矽片表面的電場加速,垂直入射到矽片表面上,以較大的動量進行物理刻蝕,同時它們還與薄膜表面發生強烈的化學反應,產生化學刻蝕作用。選擇合適的...

中文名稱 刻蝕作用 英文名稱 etching 定義 被風吹揚而起的沙粒對岩石和礦物表面的侵蝕和打擊作用。 套用學科 地理學(一級學科),地貌學(二級學科) 以上內容...

刻蝕技術(etching technique),是在半導體工藝,按照掩模圖形或設計要求對半導體襯底表面或表面覆蓋薄膜進行選擇性腐蝕或剝離的技術。刻蝕技術不僅是半導體器件和積體電路...

反應離子腐蝕技術是一種各向異性很強、選擇性高的乾法腐蝕技術。它是在真空系統中利用分子氣體等離子來進行刻蝕的,利用了離子誘導化學反應來實現各向異性刻蝕,即是...

乾法刻蝕是用電漿進行薄膜刻蝕的技術。當氣體以電漿形式存在時,它具備兩個特點:一方面電漿中的這些氣體化學活性比常態下時要強很多,根據被刻蝕材料的不...

反應性離子刻蝕 (reaction ionetching;RIE)是製作半導體積體電路的蝕刻工藝之一。在除去不需要的積體電路板上的保護膜時,利用反應性氣體的離子束,切斷保護膜物質的...

刻蝕後檢(測)(After Etching Inspection,AEI),即刻蝕後的CD測量。在刻蝕製程光刻膠去除前及光刻膠去除後,分別對產品實施全檢或抽樣檢查。AEI一般用於檢測刻蝕機...

中文名稱 離子刻蝕 英文名稱 ion etching 定義 利用離子轟擊作用,對材料表面進行刻蝕的過程。 套用學科 材料科學技術(一級學科),材料科學技術基礎(二級學科),...

離子束刻蝕也稱為離子銑,是指當定向高能離子向固體靶撞擊時,能量從入射離子轉移到固體表面原子上,如果固體表面原子間結合能低於入射離子能量時,固體表面原子就會被...

等離子刻蝕機,又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、電漿刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統等。等離子刻蝕,是乾法刻蝕中最常見的一種形式,其原理是暴露在...

凍刻蝕技術(freeze-etching technique)是透射電子顯微鏡觀察用試樣的制樣法之一。該法的特點是能較好地保持含水樣品如生物組織的自然狀態。在常壓下將樣品在-150℃...

DRIE,全稱是Deep Reactive Ion Etching,深反應離子刻蝕,一種微電子乾法腐蝕工藝。...... 與反應離子刻蝕原理相同,通過化學作用和物理作用進行刻蝕。不同之處在於:...

反應離子腐蝕技術是一種各向異性很強、選擇性高的乾法腐蝕技術。它是在真空系統中利用分子氣體等離子來進行刻蝕的,利用了離子誘導化學反應來實現各向異性刻蝕,即是...