X射線顯微鏡

X射線顯微鏡

X 射線顯微鏡是X 射線成像術的一種,也是顯微成像技術,即將微觀的、肉眼無法分辨看出的結構、圖形放大成像以便觀察研究的器械。X 射線成像的襯度原理、設備的構造與主要組成部件( 如X射線源、探測器等),但主要是從巨觀物體的成像( 如人體器管的醫學成像、機械製品的缺陷探傷、機場車站的安全檢查等) 出發的。巨觀成像與微觀成像有相通之處,如襯度原理、設備的主要組成部件等,但也有區別。

基本介紹

  • 中文名:X射線顯微鏡
  • 學科:冶金工程
  • 領域:冶煉
  • 類型:顯微成像技術
  • 構成:X射線源、探測器等
定義,成像與構造,聚焦放大元件,光源,探測器,透射式X,掃描式X,光譜顯微鏡,NEXAFS,磁X,光電子發射,全息顯微術,比較,

定義

X 射線顯微鏡是X 射線成像術的一種,也是顯微成像技術,即將微觀的、肉眼無法分辨看出的結構、圖形放大成像以便觀察研究的器械。X 射線成像的襯度原理、設備的構造與主要組成部件( 如X射線源、探測器等),但主要是從巨觀物體的成像( 如人體器管的醫學成像、機械製品的缺陷探傷、機場車站的安全檢查等) 出發的。巨觀成像與微觀成像有相通之處,如襯度原理、設備的主要組成部件等,但也有區別。由於X 射線顯微鏡是用來觀察肉眼無法分辨的微觀結構與圖形,因而在儀器結構和要求上有顯著不同,如要求光源尺寸小而強度大,要將像放大和高分辨等。

成像與構造

X 射線顯微鏡的成像原理與光學顯微鏡基本上是一樣的,遵從幾何光學原理,其關鍵部件是成像和放大作用的光學元件,在光學顯微鏡中為透鏡。由於X 射線的波長很短,在玻璃和一般物質界面上的折射率均接近1,故其成像放大元件不能用玻璃透鏡,現在一般用波帶片。
此外,它們同樣利用吸收襯度和位相襯度成像,同樣要求有強光源及像探測器。對光學顯微鏡,一般用肉眼觀察,故常加一目鏡起進一步放大的作用。在X 射線顯微鏡中當然不能用眼晴直接觀察,可用CCD 等面探測器探測。顯微鏡的重要性能指標兩者是相似的,有放大倍數、分辨力、像差等幾個。X 射線顯微鏡的一般構造:從強光源來的光束先經聚焦元件( 在此為毛細管透鏡聚焦) 使光斑尺寸變小、亮度加大,然後射到樣品上,透過樣品的光,再經成像放大元件( 在此為波帶片) 而到達探測器( 在此為閃爍體加CCD)。成像波帶片和探測器之間有一個Au 位相補償環,在相襯成像時用。如吸收襯度成像,可移走。

聚焦放大元件

常用的聚焦鏡是多層膜反射聚焦鏡和波帶片,成像放大元件是波帶片。
1 多層膜反射聚焦鏡
多層膜是在基板上重複塗上兩種不同的材料製成的人造一維晶體。通常,一種材料是高原子序數的重金屬(H),另一種是低原子序數的非金屬(L)。這兩個層的厚度之和dH + dL構成這多層膜的重複周期d。dH 和dL 的大小與其比值及多層膜的性質有關。需按實驗的要求來設計、製造,因此品種很多。最簡單的是膜厚d 均勻的鏡子,但也有膜厚d 是逐漸變化的鏡子。鏡面可以是曲面,可以是一維彎曲的(如圓筒面、拋物面或橢圓面等),也可以二維彎曲的(如球面或橢球面等)。發散光源放在橢圓的一個焦點上,反射光聚焦在另一個焦點上。
這種一維彎曲的聚焦鏡只能在一個平面內起聚焦作用,得到的是線焦點,與此平面垂直的方向,射線仍保持原發散情況。若要兩個方向都聚焦獲得焦點可用兩種方法:一是在兩個方向上做二維彎曲;另一是將兩塊聚焦鏡轉過90° 先後放置,構成所謂的Kikpatrick-Baez (K-B)系統。K-B 系統有較多的實際套用。
2 Fresnel 波帶片
Fresnel 波帶片的原理早在100 多年前就已提出,但將其用於X 射線卻是近十幾年的事。是由兩套不同材料製成的同心圓環交替排列構成的,其中一種材料透光,另一種不透光。
波帶片稱振幅波帶片,其效率較低。為了提高效率,要將不透光的部分也變成透光這種波帶片稱相位波帶片。理想的相位波帶片,對一級聚焦,比振幅波帶片提高了幾倍。
3 毛細管
毛細管的聚焦作用是基於X 射線在毛細管內壁上的全反射,來改變X 射線的前進方向實現的。毛細管若是彎曲的,則會引導X 射線改變方向。毛細管不是等徑而是錐狀的,則X 射線就會在靠近出口處聚焦。它既可以聚焦單色X 射線,也可以聚焦白色X 射線。可聚焦的X 射線能量範圍約從200 eV 至80 keV。
利用單根毛細管聚焦X 射線束的實物在20世紀80 年代已被實際套用。美國康奈爾大學用硼矽玻璃做的一根毛細管,長為1.6 m,粗頭直徑為470 μm,細頭直徑為110 μm。此管的反射效率對8 keV 的射線是49%,對13 keV 的射線為54%,對20 keV 的射線為34%。反射效率低於100%是因為毛細管的表面並不平整,一定的起伏和粗糙度會損失部分射線。從單根毛細管射出的光束的直徑在出口處為最小,以後會慢慢增加。若毛細管出口直徑為r,則工作距離為20 μm 至100 μm,此值是比較小的。Heald 等研究過毛細管的長度、進出口直徑等參數與毛細管的透過率、強度增益倍數等性能的關係。
毛細管除了單根利用外,還可以集束套用。毛細管束,就是將數千根毛細管平行聚集在一起的元件,整體呈圓錐狀。一個由336 根直徑為17 μm 的玻璃毛細管組成的毛細管簇,可使光斑面積縮小至約1/20,功率密度可提高5 倍。
若入射光從毛細管錐體的大頭入射,則從小頭射出的光被聚焦;如入射光從較小的一頭進去,則從較大的一頭射出的光為平行光。與單毛細管相比,毛細管束的長度可以短,其焦點的面積會比單毛細管大一些,但焦點的位置離管口的距離也會大一些(有幾公分),使用起來比較方便。毛細管束還可以是中間大兩頭小的雙圓錐形。聚焦元件還有用單晶體做的和所謂的折射透鏡,不過,它們在X 射線顯微鏡中用得不多。

光源

三類X 射線光源:實驗室X 射線光源(X 射線管)、直線加速器和同步輻射裝置。同步輻射是既近平行又高強度,且波長可調而成為最理想的光源。未見有將直線加速器用於X 射線顯微鏡,實驗室光源有使用的,但不能用焦點在10 mm×1 mm 左右的封閉X 射線管,可以用高功率的旋轉陽極X 射線管。另外,可用焦點尺寸在數十微米的細聚焦X 射線管,該管焦點小,但光亮度大,可達2×1011~1.2×1012 photos/s · sr,已接近同步輻射的光亮度,而且功耗很小,一般只有數十瓦,整機體積也小,適合作為實驗室X 射線顯微鏡的光源。此外,還有用等離子X 射線源的。
從光源發射出的X 射線一般需先經聚焦使光斑進一步縮小,光亮度進一步增加才照到樣品上。總的來說,實驗室光源的光亮度比較低,儀器的分辨力也低,故實驗室X 射線顯微鏡套用面不廣,而同步輻射顯微鏡卻發展得很快,做出了許多很有價值的工作。

探測器

各種探測器都可用,如感光膠片、影像板(Image plate, IP)、影像增強器、半導體探測器(CCD,電荷偶合器) 等。當然,巨觀用的和微觀用的在結構和參數上是不同的。
X 射線顯微鏡可按使用的X 射線能量的高低分為軟X 射線顯微鏡和硬X 射線顯微鏡。其構造基本相同,但研究對象有側重。前者較多套用於生物醫學體系,後者較多套用於材料醫學體系。如按其技術或原理來分類,則有透射式或掃描式顯微鏡、光譜顯微鏡、全息顯微鏡等多種。

透射式X

用波帶片作為聚光鏡、顯微波帶片作為成像放大物鏡、CCD 為探測器, 分辨力可達10 nm。將樣品連上了製冷裝置( 氦氣)、轉動機構,並使CCD 與計算機連線,則可做斷層掃描(CT),並從螢幕上直接觀察CT 圖。
水窗: 水窗是指從波長2.3 nm 至4.4 nm的一個波段範圍。用此範圍的X 射線入射於生物樣品,水中含有的氧對它們的吸收很小( 40%),而有機體中的碳對它們的吸收卻很高( > 60%),可以認為水對此波段的光是透明的,使水和氧間的襯度很高。故用此波段的光來觀察含水生物樣品,可避開氧吸收的干擾,清楚看到主要由碳構成的有機分子的構造。
透射式X 射線顯微鏡既可利用吸收襯度成像也可用相位襯度成像。這兩類儀器在構造上略有差別,相襯顯微鏡的聚光器不是單一的波帶片,而是由環狀孔徑、波帶片和針孔構成。環狀孔徑將入射光限制為一個環,波帶片將其單色化並聚焦在位於針孔中的試樣上,從試樣出射的光經顯微波帶片和位於其背焦面附近的環狀相位板( 添加位相) 而成像在探測器上。

掃描式X

在上述透射X 射線顯微鏡中,整個被研究物需完全暴露在入射光束中,探測器顯示的是放大、完整的物像。在掃描式X 射線顯微鏡中入射光束一般被聚焦得很細小,如幾十個納米,故物體上只有一個很小的區域被光照射,探測器上只得到這一個點的放大圖像,相對移動物體與光的位置,可逐點得到物體上各點的像,這些點像被逐點輸入計算機,經處理後在顯示器上顯示出完整的圖像。一般用掃描台實現,掃描步距可以為幾個納米。可以是光路不動,樣品移動逐點掃描,也可以樣品不動波帶片掃描。一般是樣品移動的分辨力較低,波帶片掃描的分辨力較高。聚光波帶片之後常有一個級次選擇光闌(OSA),用來從波帶片產生的不同級次的衍射光中選擇需要的級次,並阻擋其他級次的光,以降低背景。
掃描式X 射線顯微鏡可以利用吸收襯度成像,也可用相位襯度成像;可得到明場像,也可得到暗場像。

光譜顯微鏡

所謂光譜顯微鏡是將某種光譜和顯微鏡相結合的技術。此類技術頗多,只要這種光譜能產生一種與觀察位置有關的信號,如透射光子的計數率、總的或特定的峰的光電子產率、螢光產率等,這些信號可以給出元素的、化學的、磁的等各種信息。
入射X 射線經兩次多層膜反射聚焦到試樣上,樣品可在兩個方向掃描,以得到整個圖像。探測器依據需探測的信號的性質選擇品種、安裝位置等。如欲探測的是發生的多色螢光,則可用固體探測器在反射位置探測;如探測的是單色的透射或衍射線,則可用閃爍計數器或CCD等測定;如被探測的是光電子,則需用電子分析器探測。

NEXAFS

這是將X 射線吸收光譜與X 射線顯微鏡結合的技術。NEXAFS 是X 射線吸收光譜中靠近吸收邊的那一段光譜。對一些有機或生物分子,如核酸與蛋白質、聚苯乙烯PS 和有機玻璃PMMA 或PEP 等,由於它們均由C、H、O等輕元素構成,利用一般的吸收襯度是不能區別的。但如選擇某種特定波長的X 射線,則可將它們區分出來。這是因為在不同化合物中的C、H、O 有著不同的近鄰配位結構,因而它們的外層能級結構不同,造成它們的X 射線近邊吸收光譜不同,故可比較它們的NEXAFS 譜,找出它們的吸收有巨大差異的能量,用這種能量的X 射線入射,則一種物質吸收小而另一種吸收大,可以造成大的吸收襯度,明顯地將它們加以區別。三元高聚物中三個組分PS、PMMA 和PEP 的NEXAFS 譜。可看出,在入射線能量為285.15 處,PS 吸收很大,另兩個幾乎不吸收;在能量為287.6 處,PEP吸收大,另兩者吸收小;而在能量288.4 處是PMMA 吸收很大,而PS 和PEP 吸收很小。分別用這三個能量的單色X 射線做掃描X 射線顯微鏡觀察,此三元聚合物中的大顆粒主要由PS 構成,PS 中存在許多小顆粒,是為PMMA,而大顆粒之間充填的是PEP。

磁X

同步輻射中所含的輻射均是偏振光,可以是線偏振光,也可以是橢圓或圓偏振光,X 射線也不例外。如果待測物質具有磁性,則具有不成對電子,具有電子自旋磁矩和軌道磁矩。磁矩與不同方向的偏振光的作用是不同的,如用不同方向的圓( 線) 偏振光照射磁性材料,可以得到不同的吸收譜,該性質稱圓( 線) 二色性。
把用左右圓( 線) 偏振光得到的不同的吸收譜相減就得到圓( 線) 二色譜。X 射線源來自一同步輻射裝置中的橢圓波盪器,經前置鏡使其準直,濾波後經一離軸波帶片聚焦,再經單色器( 由三塊平晶組成) 使其成為單色光,並聚焦到試樣上,經試樣吸收後的光用一顯微波帶片成像並放大,像用CCD 探測。在試樣台上裝有可以施加不同方向外磁場的系統。

光電子發射

光電子發射顯微鏡是利用X 射線在樣品上激發出光電子來放大成像的裝置。如要研究磁性材料,則和磁顯微鏡一樣,入射光需偏振X 光。
電子顯微鏡類似,由幾個電磁透鏡起成像放大作用。由四個不同磁矩方向( 用箭頭表示) 的磁疇構成,入射圓偏振X 射線與不同磁疇的作用不同,激發出光電子不同,故所成之像不同,可區別出4個磁疇。
用波長與Co L3 吸收邊的波長相同的X 射線照射,Co 層強烈吸收,Ni 層吸收少, 獲得Co 層的磁疇像。顏色不同的區域表示磁化方向不同, Co 層內的磁化方向,是在平面內的;換用與Ni L3 吸收邊能量相同的X 射線入射,則得到的是Ni 層的磁疇像。
磁疇呈條狀平行排列,但磁化方向不在平面內,而是與平面垂直。Ni、Co 層的磁疇形狀不同,但Co 層的結構似與Ni 層的條狀結構有一些關係。
線偏振光以與樣品表面小於15°角的方向入射,若是s 偏振,則電矢量與樣品表面平行;若是p偏振,則電矢量與樣品表面法線成15°角。利用能量位於Ni L 吸收邊的線偏振光拍攝得到的Ni(100) 表面上的反鐵磁疇的光電子發射像,呈現出Ni 表麵條狀的反鐵磁疇結構。

全息顯微術

已經知道,像是依靠吸收襯度( 光的振幅)或位相襯度一種信息來顯現的。而所謂全息,是指同時含有振幅與位相兩種信息。這是Gabor在1948 年提出的。由於目前的記錄介質實際可記錄的信息只能是光強,也即振幅,故需將位相信息轉換成強度來記錄。把光照射到試樣上,試樣以球面波形式將其散射,如有另一束已知振幅與位相的、未經散射的直射參考光,兩者的波前相遇時因經過的途程長度1與10不同,存在位相差,故會幹涉,則合成的總強度是既與原光的振幅有關,又與兩光的位相差有關。故此總強度包含了振幅與位相兩種信息。這樣的干涉圖是全息圖,並不是原物體的像,怎樣才可從干涉圖獲得原物體的圖像呢?需通過圖像再現。這就要用雷射來照射記錄下的干涉圖,其發出的波前仍和參考源相同,但其干涉圖又與試樣的波前一致,從而再現原物體。全息顯微過程是由全息記錄和波前再現兩步構成的。
X 射線螢光全息(XFH)已被用來獲取局域原子的結構。在螢光全息中,入射X 射線激發試樣中感興趣元素的螢光。螢光的一部分直接射向探測器,另一部分被其周圍的原子散射,散射螢光射向探測器,與直射螢光發生干涉而得到這一方向k 的全息強度I(k)。在一個相當大的立體角範圍內改變探測器的位置,也即改變方向,改變1、10 的長度,改變了位相差,則每一方向得到的干涉強度是不同的,其全體即為全息譜。
螢光全息還有另一種實現方法,為多能X射線全息(MEXH),其光路是XFH 的倒轉,探測器和激發光源互換位置。入射光一部分被近鄰原子散射,散射波到螢光發生原子處與直接到達的入射光發生干涉,螢光發生原子接受到的光強是上兩光的干涉結果,故該原子發射的螢光強度是與干涉結果相關聯的。與XFH 類似,改變入射光的位置,以得到不同方向的I(k),加合得到全息圖。改變入射光的波長,可得不同波長的全息圖,加大了倒易空間中的採樣範圍,避免像的畸變。加和這些全息圖還可有效解決孿生像的問題。Marchesini 等用XFH 法研究了準晶Al70.4Pd21Mn8.6 的結構。
實驗是在歐洲同步輻射裝置ID22 波盪器光束線上進行,入射光能量為16 keV。經積分變換得到的實空間的原子結構。聯接其中最亮的12 個點可看出準晶的五角二十面體特徵。

比較

各種顯微鏡均有自已的特色及適用範圍。分辨力最高的是電子顯微鏡,其次是X 射線顯微鏡。由於電子的穿透力非常低,故電子顯微鏡適用在表面形貌和結構的分析,而X 射線有強的穿透力,故可做塊體分析,甚至做斷層掃描(CT)。X 射線顯微鏡的另一特點是可與各種光譜結合成光譜顯微鏡,大大擴大了它的套用範圍。

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