電子束蒸發

電子束蒸發是真空蒸鍍的一種方式，它是在鎢絲蒸發的基礎上發展起來的。電子束是一種高速的電子流。電子束蒸發是目前真空鍍膜技術中一種成熟且主要的鍍膜方法，它解決了電阻加熱方式中膜料與蒸鍍源材料直接接觸容易互混的問題。

基本介紹

• 中文名：電子束蒸發
• 分類：真空蒸鍍方式

基本內容

電子束蒸發法是真空蒸發鍍膜的一種，是在真空條件下利用電子束進行直接加熱蒸發材料，使蒸發材料氣化並向基板輸運，在基底上凝結形成薄膜的方法。在電子束加熱裝置中，被加熱的物質放置於水冷的柑渦中，可避免蒸發材料與柑禍壁發生反應影響薄膜的質量，因此，電子束蒸發沉積法可以製備高純薄膜，同時在同一蒸發沉積裝置中可以安置多個增禍，實現同時或分別蒸發，沉積多種不同的物質。通過電子束蒸發，任何材料都可以被蒸發，不同材料需要採用不同類型的增竭以獲得所要達到的蒸發率。

優點

電子束蒸發可以蒸發高熔點材料，比一般電阻加熱蒸發熱效率高、 束流密度大、蒸發速度快，製成的薄膜純度高、質 量好，厚度可以較準確地控制，可以廣泛套用於製備高純薄膜和導電玻璃等各種光學材料薄膜。

電子束蒸發的特點是不會或很少覆蓋在目標三維結構的兩側，通常只會沉積在目標表面。這是電子束蒸發和濺射的區別。

套用

常見於半導體科研工業領域。利用加速後的電子能量打擊材料標靶，使材料標靶蒸發升騰。最終沉積到目標上。