真空鍍膜(李雲奇編著圖書)

真空鍍膜

所屬類別

科技 >> 化工 >> 化學工程

作者：李雲奇編著

叢書名：真空科學技術叢書

出版日期：2012年8月書號：978-7-122-12780-8

開本：16 裝幀：平版次：1版1次頁數：310頁

本書是本著突出近代真空鍍膜技術進步，注重系統性、強調實用性而編著的。全書共11章，內容包涵了真空鍍膜中物理基礎，各種蒸發源與濺射靶的設計、特點、使用要求，各種真空鍍膜方法以及薄膜的測量與監控，真空鍍膜工藝對環境的要求等。本書具有權威性、實用性和通用性。

本書可作為從事真空鍍膜技術的技術人員、真空專業的本科生、研究生教材使用，亦可供鍍膜、表面改型等專業和真空行業技術人員參考。

第1章真空鍍膜概論

11概述

12影響固體表面結構、形貌及其性能的因素

121原子和分子構成固體物質

122多晶體物質結構

123材料受到的各種應力負荷

124材料加工所帶來的缺陷

125基片表面塗敷硬質薄膜的必要性

13真空鍍膜及其工藝特點和應賦予塗層的功能

14薄膜的特徵

141薄膜的結構特徵

142金屬薄膜的電導特徵

143金屬薄膜電阻溫度係數特徵

144薄膜的密度特徵

145薄膜的時效變化特徵

15薄膜的套用

151電子工業用薄膜

152光學工業中套用的各種光學薄膜

153機械、化工、石油等工業中套用的硬質膜、耐蝕膜和潤滑膜

154有機分子薄膜

155民用及食品工業中的裝飾膜和包裝膜

16真空鍍膜的發展歷程及最新進展

參考文獻

第2章真空鍍膜技術基礎

21真空鍍膜物理基礎

211真空及真空狀態的表征和測量

212氣體的基本性質

213氣體的流動與流導

214氣體分子與固體表面的相互作用

22真空鍍膜低溫電漿基礎

221電漿及其分類與獲得

222低氣壓下氣體的放電

223低氣壓下氣體放電的類型

224低氣壓下冷陰極氣體輝光放電

225低氣壓非自持熱陰極弧光放電

226低氣壓自持冷陰極弧光放電

227磁控輝光放電

228空心冷陰極輝光放電

229高頻放電

2210電漿巨觀中性特徵及其中性空間強度的判別

23薄膜的生長與膜結構

231膜的生長過程及影響膜生長的因素

232薄膜的結構及其結構缺陷

24薄膜的性質及其影響因素

241薄膜的力學性質及其影響因素

242薄膜的電學性質

243薄膜的光學性質及其影響膜折射率的因素

244薄膜的磁學性質

真空鍍膜(李雲奇編著圖書)

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