在真空鍍膜設備中, 電子束蒸發源雖遠較電阻加熱式蒸發源複雜, 但因其能蒸鍍難熔材料, 膜層純度高, 而優於電阻加熱蒸發源。
基本介紹
- 中文名:電子束蒸發源
- 外文名:evaporatorwith electron beam
在真空鍍膜設備中, 電子束蒸發源雖遠較電阻加熱式蒸發源複雜, 但因其能蒸鍍難熔材料, 膜層純度高, 而優於電阻加熱蒸發源。
在真空鍍膜設備中, 電子束蒸發源雖遠較電阻加熱式蒸發源複雜, 但因其能蒸鍍難熔材料, 膜層純度高, 而優於電阻加熱蒸發源。...
電子束蒸發是真空蒸鍍的一種方式,它是在鎢絲蒸發的基礎上發展起來的。電子束是一種高速的電子流。電子束蒸發是目前真空鍍膜技術中一種成熟且主要的鍍膜方法,它...
定義 採用兩個電子束蒸發源,通過控制其各自的蒸發速率,改變兩種蒸氣的沉積速率比的鍍膜方法。 套用學科 材料科學技術(一級學科),材料科學技術基礎(二級學科),材料...
真空蒸發工藝是將固體材料置於高真空環境中加熱,使之升華或蒸發並澱積在特定的襯底上,以獲得薄膜的工藝方法。真空蒸發工藝在微電子技術中主要用於製作有源元件、器件...
(4台套)、超高真空磁控濺射系統、電子束蒸發設備(2套)、離子束濺射機、離子束刻蝕機、等離子增強化學氣相沉積設備、金屬反應離子刻蝕設備、介質反應離子刻蝕設備、深...
(Physical Vapor Deposition,PVD)技術表示在真空條件下,採用物理方法,將材料源—...蒸發的方法常用電阻加熱,高頻感應加熱,電子束、雷射束、離子束高能轟擊鍍料,使...
離子源將束流從離子槍指向基底表面和正在生長的薄膜來改善傳統電子束蒸發的薄膜特性。 圖19.13 薄膜的光學性質,如折射率、吸收和雷射損傷閾值,主要依賴於膜層的...
2.3 蒸發源2.3.1 電阻加熱式蒸發源2.3.2 電子槍加熱蒸發源2.3.3 感應加熱式蒸發源2.3.4 空心熱陰極電子束蒸發源2.3.5 雷射加熱蒸發源...
3 1 4空心熱陰極電漿電子束蒸發源3 1 5感應加熱式蒸發源3 1 6雷射加熱式蒸發源3 1 7輻射加熱式蒸發源3 1 8蒸發源材料...
第3章蒸發源與濺射靶 3.1蒸發源 3.1.1蒸發源及其設計與使用中應考慮的問題 3.1.2電阻加熱式蒸發源 3.1.3電子束加熱式蒸發源 3.1.4空心熱陰極電漿...
物理氣相沉積法,也稱為物理蒸鍍,包括:電阻絲蒸鍍法、電子束蒸鍍法以及濺射法等等。其中,電阻式蒸鍍法和電子束蒸鍍法均需要在高溫下使SiO氣化,而濺射沉積法則是...
薄膜及微細加工技術的套用範圍極為廣泛,從大規模積體電路、電子元器件、平板顯示...6.3 蒸發源1666.3.1 電阻加熱蒸發源1666.3.2 電子束蒸發源170...
(PVD),納米光刻高壓電源,用於離子束沉積、離子束輔助沉積、電子束蒸發、電子束焊接、離子源、直流磁控反應濺射、玻璃/織物鍍膜、輝光放電、微波處理高壓電容測試、...
(PVD),納米光刻高壓電源,用於離子束沉積、離子束輔助沉積、電子束蒸發、電子束焊接、離子源、直流磁控反應濺射、玻璃/織物鍍膜、輝光放電、微波處理高壓電容測試、...