離子束注入

基本介紹

• 中文名：離子束注入
• 外文名：Ion beam implantation

離子束注入是通過電場加速離子注入到固體中，造成物理、化學，特別是電屬性改變的一種材料加工過程，也稱為離子束加工。離子束注入用於半導體器件製造、金屬拋光以及各種材料科學研究中。如果注入離子與靶材料不同，停止在靶中的注入離子將改變靶材料的化學成分。注入離子傳遞動能給靶材料中的電子或者原子核，導致靶材料晶格損傷。如果注入離子能量高於庫倫勢壘，會引起核反應，引起材料化學成分變化。