離子束蒸發(ion beam evaporation)是1993年公布的電子學名詞。
基本介紹
- 中文名:離子束蒸發
- 外文名:ion beam evaporation
- 所屬學科:電子學
- 公布時間:1993年

離子束蒸發(ion beam evaporation)是1993年公布的電子學名詞。
強流離子束的產生 在雙極性流的情況下,質子流和電子流密度滿足方程式中x是陰陽極之間距離,V是陰陽極間隙上的電壓,εo是空氣介電常數,e是電子電荷,mp是質子質量。電子流密度約為質子流密度的43倍,強流離子二極體的工作原理是利用...
在如此高的電場下,液態表面的金屬離子以場蒸發的形式逸出表面,產生離子束流。由於液態金屬離子源的發射面積極小,儘管只有幾微安的離子電流,但電流密度約可達106A/cm2,亮度約為20μA/sr。聚焦離子束系統 聚焦式離子束技術是利用靜電...
④離子束蒸發法。將由離子源激發蒸發物質所產生的離子蒸鍍於薄膜上以形成鍍金屬膜材的方法。2.濺(噴)鍍系統 ①常規噴鍍。常採用直流和高頻放電法以噴鍍的方法。②磁控管噴鍍。噴鍍對象物在磁場中作高速移動時,使在對象物的表面上...
《離子束表面處理提升負載能力的規律和工藝研究》是依託電子科技大學,由向霞擔任醒目負責人的聯合基金項目。項目摘要 大口徑光學元件的負載能力目前已成為限制ICF驅動器輸出能力的瓶頸問題之一,去除元件表面、亞表面缺陷是提高元件負載能力的...
(4)基板的真空離子束清洗,控制真空度為1×10帕斯卡~5×10帕斯卡;(5)基板上薄膜製備:使用電子束蒸發方法在基板上製備HfO₂/SiO₂薄膜;(6)薄膜缺陷的雷射預處理:用脈衝寬度為10納秒,波長為1064納米的YAG雷射對基板上的...
2.3.4 空心熱陰極電子束蒸發源 2.3.5 雷射加熱蒸發源 2.3.6 電弧加熱蒸發源 2.4 特殊蒸鍍技術 2.4.1 閃蒸蒸鍍法 2:4.2 多蒸發源蒸鍍法 2.4.3 反應蒸鍍法 2.4.4 三溫度蒸鍍法 3 真空濺射鍍膜 3....
TDM-200晶控膜厚儀適用於高頻濺射、直流濺射、電阻蒸發、離子束、電子束等鍍膜套用場合,線上測量膜層的厚度,可用於批量生產,也可用於薄膜材料研究。本儀器具有高速高精度測量系統,可提高鍍膜的質量和可重複性,具有精確穩定、易於操作、...
蒸發的方法包括電阻加熱,高頻感應加熱,電子束、雷射束、離子束高能轟擊鍍料等。真空蒸鍍是PVD法中使用最早的技術。蒸發源 將鍍料加熱到蒸發溫度並使之氣化,這種加熱裝置稱為蒸發源。最常用的蒸發源是電阻蒸發源和電子束蒸發源,特殊...
4.1 蒸發沉積 4.2 濺射沉積 4.3 離子束沉積 4.4 脈衝雷射沉積 第5章 化學氣相沉積 5.1 熱化學氣相沉積 5.2 電漿化學氣相沉積 5.3 高密度電漿化學氣相沉積 5.4 其他化學氣相沉積 第6章 膜厚和沉積速率的測量 6.1...
Denton電子束蒸發鍍膜設備 Denton多靶磁控濺射鍍膜系統 HARRICK等離子清洗機 微納圖形加工設備 Zeiss Auriga場發射電子束/聚焦離子束雙束系統 測試設備 KLA-Tencor P7 台階儀 薄膜II區 薄膜沉積設備 Oxford 電漿增強化學氣相沉積系統 刻...
步驟2:採用感應耦合電漿、電子迴旋共振、反應離子刻蝕乾法刻蝕技術進行器件隔離;步驟3:在氮化鎵P型接觸層上採用電子束蒸發技術製作ITO光學膜;步驟4:採用離子束濺射技術在ITO光學膜上製作一層光學高反膜,高反膜採用網狀結構,即ITO...
用我們已經掌握的離子束刻蝕技術結合真空熱蒸發和旋塗技術製造有機光子晶體能帶邊緣型雷射器,其研究結果對將來開發極低閾值電泵浦光子晶體雷射器具有重要的指導意義。預計本項目的研究對新型光器件,非線性光學以及集成光學將產生重要而深遠的...
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