複合電阻薄膜

複合電阻薄膜是指由多種不同薄膜疊合構成的電阻薄膜。

基本介紹

• 中文名：複合電阻薄膜
• 外文名：composite resistance film
• 學科：材料技術
• 領域：工程技術

簡介

複合電阻薄膜是指由多種不同薄膜疊合構成的電阻薄膜。

作用

這種薄膜可克服單層高阻或低阻薄膜的電阻溫度係數大，穩定性差的缺點。

原理

複合電阻薄膜利用複合膜間的TCR可以相互補償，因而具有良好的性能。

內容

複合電阻薄膜主要有:

（1） NiCr一Ta2N複合薄膜。將NiCr膜與Ta2N膜進行複合，NiCr膜厚度為5~100nm,Ta2N膜厚度為10~100nm。可製得TCR小於士25ppm/C的低中阻薄膜，而且不需要保護層即可得到高的穩定性;

（2）CrSi- NiCr複合薄膜。在CrSi低層薄膜上複合NiCr薄膜，可製得低TCR,高穩定性的高阻薄膜;

（3）CrSiCo-NiCr複合薄膜。在CrSiCo底層薄膜上複合NiCr膜，可製得TCR為±25ppm/C的複合膜。用真空蒸發法製作複合膜，蒸發CrSiCo膜用的原料為高純Cr,Si,Co粉的混合物。控制CrSiC。薄膜方阻為1.5kΩ/口。

原料

蒸發NiCr膜用的原料為高純Ni-20Cr，控制NiCr膜方阻為1 00Ω/口。複合電阻薄膜用於要求低電子溫度係數的薄膜電阻器。