氮化物電阻薄膜

氮化物電阻薄膜是指氮化物電阻薄膜是由稀有金屬及其合金氮化物所組成的薄膜材料。

基本介紹

• 中文名：氮化物電阻薄膜
• 外文名：nitride resistance film
• 學科：材料技術
• 領域：工程技術

簡介

氮化物電阻薄膜是指氮化物電阻薄膜是由稀有金屬及其合金氮化物所組成的薄膜材料。

分類

其類型主要有:

（1）氮化鈦薄膜，可用反應蒸發、反應濺射、CVD等方法形成TiN電阻薄膜，TiN電阻膜的性能類似Ta2N，但鈦的價格較擔低;

（2）氮化鋯薄膜，它是一種耐溫高阻薄膜，主要用於熱印電阻器;

（3）鈮鉭和鈮鉭氮薄膜，這種薄膜具有Ta膜和Ta2N膜類似的性能。

方法

一般採用濺射工藝製作薄膜，靶為高純(99. 9~99. 99%鈮、鉭複合靶，膜厚一般為100~250nm。

用途

鈮鉭和鈮鉭氮薄膜除作電阻薄膜外，也可形成NbTa，和NbTaN的陽極氧化膜，可同時製作薄膜電阻和電容。