濺射

濺射對於遠程有彈道英雄就像分裂斬對於近戰英雄，它和分裂斬有相似也有不同的地方。最大的不同在於AoE在彈道擊到的目標處決定，而不是分裂斬由攻擊者站立的地方確定。目前版本有一個英雄、一種召喚單位和一種野怪有這種攻擊類型。他們是：龍騎士（2、3級變身為龍後）、暗影薩滿的蛇帳和黑龍。

基本介紹

• 中文名：濺射
• 外文名：sputtering; spurting; disintegration; spotter
• 拼音：jiàn shè
• 釋義：成飛散的點滴地噴或射出

Dota濺射

和分裂斬不同的是物品中不存在這個技能，因為他需要單位有一種特殊的武器類型，在DotA中這個是Missile （Splash），這也意味著我們不會看見一個近戰英雄擁有這個硬編程（hardcoded）的濺射技能。當然我們可以把一個遠程的射程設為100（普通近戰英雄的射程），這樣看起來就像是個近戰英雄了。（就像很早以前的熊戰士）

幻象單位可以和正常單位一樣濺射。

當攻擊盟友單位的時候也會濺射。

濺射的AoE

濺射的AoE是一個圓心位於彈道擊中被攻擊目標位置的圓。

DotA中所有的濺射傷害都根據距離圓心的大小，分有3個等級，從中心到邊緣遞減，也就是說範圍是三個同心圓。下面是配上圖片說明DotA里具體的數據和範圍：

黑龍

100% 傷害 50 AoE.

50% 傷害 150 AoE.

25% 傷害 250 AoE.

龍騎士（2、3級變龍）

100% 傷害 75 AOE.

75% 傷害 150 AOE.

50% 傷害 250 AOE.

暗影薩滿的大蛇守衛（A帳對這些數據沒影響）

等級1： 100% 傷害 50 AOE, 40% 傷害 75 AOE， 20% 傷害150 AOE.

等級2： 100% 傷害 75 AOE, 40% 傷害 100 AOE， 20% 傷害 200 AOE.

等級3： 100% 傷害 85 AOE, 40% 傷害 110 AOE， 20% 傷害 220 AOE.

攻擊傷害的信息

濺射的攻擊類型和該單位的攻擊類型一樣，(傷害類型是普通傷害，)濺射部分和通常的攻擊是相同的，這意味著所有的單位護甲數值、護甲類型和傷害阻擋技能(例如先鋒盾、圓盾、海妖外殼)都會在計算傷害結果的時候分別考慮進去。

因為分別計算濺射範圍內各自單位的傷害減少，這就是說對主單位的傷害結果對於其他濺射目標來說不重要，下面是一個例子：

假設主目標：0%護甲數值減少，0%護甲類型減少，沒有傷害阻擋

邊上的目標：50%護甲數值減少，50%護甲類型減少，沒有傷害阻擋

那么當你對主目標輸出100傷害並且100%濺射的時候，結果是主目標接受全部的100點傷害因為衰減為0，邊上的目標只會接受25點傷害因為經過護甲總衰減後為（100*0.5*0.5=25）。同樣的，一個邊上的目標事實上可以接受比主目標更多的傷害，如果主目標的護甲衰減相比邊上目標的護甲衰減乘以受到濺射百分比更高。

濺射攻擊丟失的情況

帶濺射的一次攻擊不會真正完全丟失，(雖然冒出miss紅字但是還是可以有傷害)，不過傷害數值要經過一個叫MissDamageCtant的遊戲常數的衰減。這個常數設定為0.5，意味著丟失的這次帶濺射的攻擊將會比初始數值減少50%的傷害。

所以對於濺射部分，如果帶濺射的一次攻擊丟失了，那么就按如下計算：

丟失攻擊的濺射數值 = 濺射數值 * MissDamageCtant

這個很簡單的式子意味著這次丟失的攻擊總共取得了50%效果。對於一個被濺射的目標，如果你之前濺射了70%，這次只相當於濺射了37.5%

對於丟失的攻擊造成傷害計算總體式子如下：

被濺射單位接受傷害數值 = 攻擊者給出傷害數值 * 濺射百分比 * 傷害護甲減少 * MissDamageCtant

注意這次攻擊雖然對主目標丟失了，但主目標被當作濺射單位，受到前面說的丟失攻擊的濺射的傷害。

另一件不同的地方是，如果一次帶濺射的攻擊丟失了，濺射的範圍圓心是在該次攻擊彈道預計著落的地點，而不是通常的目標單位的地點。（意思是如果攻擊出手就冒出miss紅字，彈道不會跟隨目標單位的移動，預計著落地點也就是彈道到達之後的濺射中心是在出手時刻目標單位的地點而不是彈道到達後的目標單位的地點）

dota中濺射的套用

狂戰斧

價格:4350

配件:闊劍+大劍+堅韌球

捲軸價格:免費

額外增加:65點攻擊力,35%分裂傷害（粉碎傷害，無視物免魔免） ，150%魔法回復速度，6點每秒生命回復速度。

分裂傷害疊加方法：每把狂戰斧的分裂效果都互不影響。直接疊加。

由幾率暴擊帶來的傷害增加對分裂有效。疾風步破隱一擊，各種重擊等尚未測定。

例：船長攻擊力400，有水刀，猛獁給了授予力量，自己有兩把狂戰斧。他直接攻擊的目標受到400點（英雄攻擊，普通傷害）；在水刀範圍內的單位受到400點（粉碎傷害，無視物免魔免），在狂戰斧範圍內的單位受到140*2點（粉碎傷害，無視物免魔免），在授予力量範圍內的單位受到180點（粉碎傷害，無視物免魔免）。除了主攻目標不受任何濺射傷害外，其他目標受到各種濺射傷害都直接疊加。假如這個船長還拿著大炮並且恰好出了暴擊，所有的濺射傷害都享受暴擊效果。

狂戰斧的濺射效果是可以疊加的，6把相當於2.1倍的濺射效果，當你在打對面的法師的時候，其他人受到其攻擊2.1倍的傷害，那是多么恐怖的一件事情啊

技術套用

PVD薄膜製備技術：濺射

濺射（sputtering）是PVD薄膜製備技術的一種，主要分為四大類：直流濺射、交流濺射、反應濺射和磁控濺射。原理如圖：

PVD薄膜製備技術:濺射

原理：用帶電粒子轟擊靶材，加速的離子轟擊固體表面時，發生表面原子碰撞並發生能量和動量的轉移，使靶材原子從表面逸出並澱積在襯底材料上的過程。以荷能粒子(常用氣體正離子)轟擊某種材料的靶面，而使靶材表面的原子或分子從中逸出的現象，同時由於濺射過程含有動量的轉換，所以濺射出的粒子是有方向性的。

用途：利用它可使他種基體材料表面獲得金屬、合金或電介質薄膜。適用於製造薄膜積體電路、片式引線器件和半導體器件等用。

方法：濺射薄膜通常是在惰性氣體(如氬)的電漿中製取。

特點：採用濺射工藝具有基體溫度低，薄膜質純，組織均勻密實，牢固性和重現性好等優點。

濺射鍍膜技術的套用

1. 製備薄膜磁頭的耐磨損氧化膜

硬碟磁頭進行讀寫操作時與硬碟表面產生滑動摩擦，為了減小摩擦力及提高磁頭壽命，目前磁頭正向薄膜化方向發展。

絕緣膜和保護膜(即AL 2 O 3 、SiO 2 氧化物薄膜)是薄膜磁頭主要構成成份。對薄膜磁頭的耐磨損膜的要求是耐衝擊性好，耐磨性好，有適當的可加工性以及加工變形小，通常採用反應濺射法製備該種薄膜。為了防止基片升溫過高，濺射鍍膜過程中要對基片進行冷卻。

2. 製備硬質薄膜

目前廣泛使用的硬化膜是水溶液電鍍鉻。電鍍會使鋼發生氫脆，而且電鍍速度慢，造成環境污染。如果採用金屬Cr靶，在N 2 氣氛中進行非平衡磁控濺射鍍膜，可以在工件上鍍覆Cr、CrN X 等鍍層，代替水溶液電鍍用於旋轉軸和其它運動部件。

3. 製備切削刀具和模具的超硬膜

採用普通化學氣相沉積技術製備TiN、TiC等超硬鍍層，溫度要在1000 ℃ 左右，這已經超過了高速鋼的回火溫度，對於硬質合金來說還可能使鍍層晶粒長大。而採用對向靶濺射沉積單相TiN薄膜，濺射時間只需10～15min，基片溫度不超過150 ℃，得到的 TiN薄膜硬度最高可達HV3800。利用非平衡磁控濺射法製備的TiN鍍膜，通過膜層硬度和臨界載荷實驗以及摩擦實驗，表明膜層硬度已經達到和超過其它離子鍍膜的效果。

4. 製備固體潤滑膜

固體潤滑膜如MoS 2 薄膜已成功套用於真空工業設備、原子能設備以及航空航天領域，對於工作在高溫環境的機械設備也是畢不可少的。雖然MoS 2 可用化學反應鍍膜法製備，但濺射鍍膜發得到的MoS 2 薄膜緻密性好，膜基附著力大，添加Au(5wt%)的MoS 2 膜，其緻密性和附著性更好，摩擦係數更小。

5. 製備光學薄膜

濺射法是目前工業生成中製備光學薄膜的一種主要的工藝。長期以來，反應磁控濺射技術主要用於工具表面鍍制TiN 等超硬膜以及建築玻璃、汽車玻璃、透明導電膜等單層或簡單膜層。近年來，光通信，顯示技術等方面對光學薄膜的巨大需求，刺激了將該技術用於光學薄膜工業化 生產的研究。