離子鍍膜

離子鍍膜加工包括濺射鍍膜和離子鍍兩種方式。離子濺射鍍膜是基於離子濺射效應的一種鍍膜方式，適用於合金膜和化合物膜的鍍制。

基本介紹

• 中文名：離子鍍膜
• 方式：濺射鍍膜和離子鍍
• 簡介：是一項發展迅速受人青睞的新技術
• 特點：膜層的繞鍍性好等

離子鍍是在真空蒸發鍍和濺射鍍膜的基礎上發展起來的一種鍍膜新技術，將各種氣體放電方式引入到氣相沉積領域，整個氣相沉積過程都是在電漿中進行的。離子鍍大大提高了膜層粒子能量，可以獲得更優異性能的膜層，擴大了“薄膜”的套用領域。是一項發展迅速、受人青睞的新技術。

廣義來講，離子鍍膜的特點是：鍍膜時，工件（基片）帶負偏壓，工件始終受高能離子的轟擊。形成膜層的膜基結合力好、膜層的繞鍍性好、膜層組織可控參數多、膜層粒子總體能量高，容易進行反應沉積，可以在較低溫度下獲得化合物膜層。