光刻膠三維效應

在積體電路光刻工藝中，曝光光線匯聚在光刻膠上，實施曝光。然而，入射到光刻膠表面的光束會發生折射，不同入射角對應的折射角不一樣，導致不同入射角的光線匯聚在光刻膠內部的不同位置，如圖1所示。這種光刻膠折射導致的聚焦位置偏差與光刻膠的光學參數（折射率，消光係數）以及光線的入射角有關。