《X射線衍射分析原理與套用》是2003年化學工業出版社出版的圖書。本書在對X射線衍射分析原理簡單介紹基礎上，選出了許多有代表性的套用實例，重點介紹X射線分析法在新型材料研究方面的套用。
基本介紹
- 書名：X射線衍射分析原理與套用
- 定價：25.00 元
- 出版社：化學工業出版社
- 出版時間：2003年10月
原理與套用,簡介,目錄,
原理與套用
作者： 劉粵惠 劉平安 定價： ¥
ISBN： 7-5025-4830-0 開本： 32 開
類別： 分析化學及儀器 頁數： 頁
簡介
全書共10章。第1章為概述。第2章至第5章為X射線衍射分析法基礎理論部分。第6章、第7章為X射線衍射物相定性和定量分析方法。第8章為衍射系統消光概念及套用。第9章為套用實例。第10章為Rietveld方法簡介。
目錄
第1章
概述
1．1
材料分析表征方法簡述
1．2
x射線衍射分析技術的發展及現狀
1．3
x射線套用技術簡介第2章
x射線的產生及性質
2．1
x射線的性質
2．2
x射線的產生
2．3
x射線譜
2．4
x射線與物質的相互作用第3章
x射線衍射原理
3．1
晶體學基礎
3．2
x射線衍射原理
3．3
x射線衍射方程
第4章
x射線衍射方法
4．1
粉晶體射儀法
4．2
其他x射線衍射儀第5章
x射線衍射數據
5．1
衍射方向
5．2
衍射強度
5．3
衍射數據的確定和表示
5．4
衍射線分離第6章
x射線物相定性分析
6．1
概念與原理
6．2
標準衍射數據資料簡介
6．3
物相分析方法及步驟第7章
x射線物相定量分析
7．1
物相定量分析原理
7．2
物相定量分析方法
第8章
衍射系統消光概念及套用
8．1
衍射系統的光規律
8．2
消光規律套用
第9章
x射線衍射分析方法的套用
9．1
x射線物相鑑定
9．2
物相定量分析
9．3
粉末晶體結構分析
9．4
晶粒度及晶格應變的測定第10章
x射線衍射結構分析的新方法——rietveld法
10．1
rietveld方法的基本原理
10．2
rietveld分析的實驗方案
10．3
rietveld方法的套用
