LIGA

LIGA

LIGA工藝是一種基於X射線光刻技術MEMS加工技術(工藝流程如圖所示),主要包括X光深度同步輻射光刻,電鑄制模和注模複製三個工藝步驟。

定義,特點,作用,

定義

LIGA是德文Lithographie,Galvanoformung和Abformung三個詞,即光刻電鑄和注塑的縮寫。
LIGA工藝是一種基於X射線光刻技術MEMS加工技術(工藝流程如圖所示),主要包括X光深度同步輻射光刻,電鑄制模和注模複製三個工藝步驟。由於X射線有非常高的平行度、極強的輻射強度、連續的光譜,使LIGA技術能夠製造出高寬比達到500、厚度大於1500 μm、結構側壁光滑且平行度偏差在亞微米範圍內的三維立體結構。這是其它微製造技術所無法實現的。LIGA技術被視為微納米製造技術中最有生命力、最有前途的加工技術。利用LIGA技術,不僅可製造微納尺度結構,而且還能加工尺度為毫米級的Meso結構。

特點

與其它微細加工方法相比,LIGA技術具有如下特點:
(1)可製造較大高寬比的結構;
(2)取材廣泛,可以是金屬、陶瓷、聚合物、玻璃等;
(3)可製作任意截面形狀圖形結構,加工精度高;
(4)可重複複製,符合工業上大批量生產要求,製造成本相對較低等。

作用

LIGA技術從首次報導(1982)至今,已經經過了三十年的發展,引起人們極大的關注,已開發國家紛紛投入人力、物力、財力開展研究,目前己研製成功或正在研製的LIGA產品有微感測器微電機微執行器、微機械零件和微光學元件、微型醫療器械和裝置、微流體元件、納米尺度元件及系統等。為了製造含有疊狀、斜面、曲面等結構特徵的三維微小元器件,通常採用多掩模套刻、光刻時線上規律性移動掩模板、傾斜/移動承片台,背面傾斜光刻等措施來實現。
目前,國內新興發展起來的使用SU-8負型膠代替PMMA正膠作光敏材料,以減少曝光時間和提高加工效率,是LIGA技術新的發展動向。但是,由於LIGA技術需要極其昂貴的X射線光源和製作複雜的掩模板,使其工藝成本非常高,限制該技術在工業上推廣套用。於是出現了一類套用低成本光刻光源和(或)掩模製造工藝而製造性能與LIGA技術相當的新的加工技術,通稱為準LIGA技術或LIGA-like技術。如,用紫外光源曝光的UV-LIGA技術,準分子雷射光源的Laser-LIGA技術和用微細電火花加工技術製作掩模的MicroEDM-LIGA技術.用DRIE工藝製作掩模的DEM技術等等。其中,以SU-8光刻膠為光敏材料,紫外光為曝光源的UV-LIGA技術因有諸多優點而被廣泛採用。

相關詞條

熱門詞條

聯絡我們