釹鐵硼電鍍根據產品使用環境的不同而採用了不同韻電鍍工藝，表面鍍層也分為兩大類，鍍鋅和鍍鎳。
電鍍分類,鍍鋅,鍍鎳,
電鍍分類
釹鐵硼電鍍根據產品使用環境的不同而採用了不同韻電鍍工藝，表面鍍層也分為兩大類，一類是鍍鋅，用於常規產品;另一類是鍍鎳，用於要求較高的產品。也有少數產品從整機需要出發而要求鍍其他鍍種的，比如鍍合金、鍍銀等。
鍍鋅
釹鐵硼產品的鍍鋅採用先化學浸鋅再鍍鋅的工藝。
①化學浸鋅
硫酸鋅：35g/L，氟化鉀：l0g/L，焦磷酸鉀：l20g/L，溫度：90℃，碳酸鈉：l0g/L，時間：40s。
②氯化鉀光亮鍍鋅
氯化鉀：180-200g/L，pH值：5.0～5.5，氯化鋅：60～80g/L，溫度：室溫，硼酸：25～35g/L，電流密度：l～2A/dm2，商業光亮劑按說明書加入。
③鍍後處理。經鍍鋅的釹鐵硼製品一定要經過鈍化處理，可採用低鉻或三價鋒、元鉻鈍化，然後經烘乾後表面塗罩光塗料。彩色鈍化的耐中性鹽霧試驗要求不低於72h。
(2)鍍鎳
釹鐵硼鍍鎳實際上也是多層鍍層，需要先預鍍鎳以後，再經鍍銅加厚，然後表面鍍光亮鎳。
①預鍍鎳
硫酸鎳：300g/L，pH值：4.O～4.5，氯化鎳：50g/L，溫度：50～60℃，硼酸：40g/L，電流密度：0.5～1.5A/dm2添加劑適量時間5min
②焦磷酸鹽鍍銅加厚。作為中間鍍層，儘管流行採用酸性光亮鍍銅工藝，但是對於釹鐵硼材料，進行加厚電鍍不宜採用酸性鍍銅，這是因為在強酸性鍍液中，已經預鍍了陰極鍍層的多孔性材料會很容易發生基體微觀腐蝕;為以後延時起泡留下隱患。比較合適的工藝是接近中性的焦磷酸鹽鍍銅。
焦磷酸銅：70g/L，光亮劑：適量，焦磷酸鉀：300g/L，pH值：8～8.5，檸檬酸銨：30g/L，溫度：40～50℃，氨水：3mL/L，電流密度：l～1.5A/dm2。
①化學浸鋅
硫酸鋅：35g/L，氟化鉀：l0g/L，焦磷酸鉀：l20g/L，溫度：90℃，碳酸鈉：l0g/L，時間：40s。
②氯化鉀光亮鍍鋅
氯化鉀：180-200g/L，pH值：5.0～5.5，氯化鋅：60～80g/L，溫度：室溫，硼酸：25～35g/L，電流密度：l～2A/dm2，商業光亮劑按說明書加入。
③鍍後處理。經鍍鋅的釹鐵硼製品一定要經過鈍化處理，可採用低鉻或三價鋒、元鉻鈍化，然後經烘乾後表面塗罩光塗料。彩色鈍化的耐中性鹽霧試驗要求不低於72h。
(2)鍍鎳
釹鐵硼鍍鎳實際上也是多層鍍層，需要先預鍍鎳以後，再經鍍銅加厚，然後表面鍍光亮鎳。
①預鍍鎳
硫酸鎳：300g/L，pH值：4.O～4.5，氯化鎳：50g/L，溫度：50～60℃，硼酸：40g/L，電流密度：0.5～1.5A/dm2添加劑適量時間5min
②焦磷酸鹽鍍銅加厚。作為中間鍍層，儘管流行採用酸性光亮鍍銅工藝，但是對於釹鐵硼材料，進行加厚電鍍不宜採用酸性鍍銅，這是因為在強酸性鍍液中，已經預鍍了陰極鍍層的多孔性材料會很容易發生基體微觀腐蝕;為以後延時起泡留下隱患。比較合適的工藝是接近中性的焦磷酸鹽鍍銅。
焦磷酸銅：70g/L，光亮劑：適量，焦磷酸鉀：300g/L，pH值：8～8.5，檸檬酸銨：30g/L，溫度：40～50℃，氨水：3mL/L，電流密度：l～1.5A/dm2。
鍍鎳
釹鐵硼鍍鎳實際上也是多層鍍層，需要先預鍍鎳以後，再經鍍銅加厚，然後表面鍍光亮鎳。
①預鍍鎳
硫酸鎳：300g/L，pH值：4.O～4.5，氯化鎳：50g/L，溫度：50～60℃，硼酸：40g/L，電流密度：0.5～1.5A/dm2添加劑適量時間5min
②焦磷酸鹽鍍銅加厚。作為中間鍍層，儘管流行採用酸性光亮鍍銅工藝，但是對於釹鐵硼材料，進行加厚電鍍不宜採用酸性鍍銅，這是因為在強酸性鍍液中，已經預鍍了陰極鍍層的多孔性材料會很容易發生基體微觀腐蝕;為以後延時起泡留下隱患。比較合適的工藝是接近中性的焦磷酸鹽鍍銅。
焦磷酸銅：70g/L，光亮劑：適量，焦磷酸鉀：300g/L，pH值：8～8.5，檸檬酸銨：30g/L，溫度：40～50℃，氨水：3mL/L，電流密度：l～1.5A/dm2。
③光亮鍍鎳硫酸鎳：300g/L，商業光亮劑按說明書加入，氯化鎳：40g/L，pH值：3.8～5.2，硼酸：40g/L，溫度：50℃，低泡潤濕劑：lmL/L，陰極電流密度：2～4A/dm2。
對於需要其他表面鍍層的釹鐵硼材料，可以在完成中間鍍層的銅加厚電鍍後，再進行其他表面鍍層的加工。有時為了增加鍍層的厚度和可靠性，還可以在焦磷酸鹽鍍後再加鍍快速酸性鍍銅工藝，以獲得良好的表面裝飾性，再鍍其他鍍層會有更好的效果。進行這些電鍍操作的要點是一定要帶電下槽和中途不能斷電，否則會對孔隙中鍍液的作用而對基體造成微觀腐蝕，影響結合力。
①預鍍鎳
硫酸鎳：300g/L，pH值：4.O～4.5，氯化鎳：50g/L，溫度：50～60℃，硼酸：40g/L，電流密度：0.5～1.5A/dm2添加劑適量時間5min
②焦磷酸鹽鍍銅加厚。作為中間鍍層，儘管流行採用酸性光亮鍍銅工藝，但是對於釹鐵硼材料，進行加厚電鍍不宜採用酸性鍍銅，這是因為在強酸性鍍液中，已經預鍍了陰極鍍層的多孔性材料會很容易發生基體微觀腐蝕;為以後延時起泡留下隱患。比較合適的工藝是接近中性的焦磷酸鹽鍍銅。
焦磷酸銅：70g/L，光亮劑：適量，焦磷酸鉀：300g/L，pH值：8～8.5，檸檬酸銨：30g/L，溫度：40～50℃，氨水：3mL/L，電流密度：l～1.5A/dm2。
③光亮鍍鎳硫酸鎳：300g/L，商業光亮劑按說明書加入，氯化鎳：40g/L，pH值：3.8～5.2，硼酸：40g/L，溫度：50℃，低泡潤濕劑：lmL/L，陰極電流密度：2～4A/dm2。
對於需要其他表面鍍層的釹鐵硼材料，可以在完成中間鍍層的銅加厚電鍍後，再進行其他表面鍍層的加工。有時為了增加鍍層的厚度和可靠性，還可以在焦磷酸鹽鍍後再加鍍快速酸性鍍銅工藝，以獲得良好的表面裝飾性，再鍍其他鍍層會有更好的效果。進行這些電鍍操作的要點是一定要帶電下槽和中途不能斷電，否則會對孔隙中鍍液的作用而對基體造成微觀腐蝕，影響結合力。
