氟化鈰閃爍體

特性
密度6.1figlCrTl}發射峰處折射率l.GBa熔點143U};。採用提拉法、增渦下降法生長。氟化飾密度高,發射位於長波紫外區,衰減常數分別為2n,5和31ns,主要性能介於BC:O和BaF:間。有5f lke}} y射線激發Cc民發射光譜呈現一個雙峰結構,其中3UUnm以下短波正好被透射切去。氟化缽閃爍體用於具有決速飛行、廉價玻璃光電倍增管的正電子發射層析X射線攝像系統二人量)材於核醫療設備卜作閃爍材料.,也可用作旋光晶體和雷射基質材料。

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