紫外線曝光機是指通過開啟燈光發出UVA波長的紫外線，將膠片或其他透明體上的圖像信息轉移到塗有感光物質的表面上的機器設備。
基本介紹
- 中文名：曝光機
- 外文名：Exposure machine
- 出射光強範圍：8mW/cm2~40mW/cm2
- 套用對象：半導體、微電子、生物器件等
組成機構,用途,
組成機構
UV燈構造
配CCD鏡頭的顯微鏡
監視器
掩膜夾具
UV燈透鏡
UV燈鏡片
UV燈電源系統
操作控制器
350W UV燈
晶片台
基底尺寸 標準尺寸 最大至4英寸；可選最大至6英寸；
托盤 標準尺寸 最大至4英寸；可選最大至6英寸；
活動範圍：X：10mm Y： 10mm Z ： 10mm Theta： 4 degree
擠入補償 Air bearing型
Z軸滑動 手動
真空泵 無油真空泵
掩膜台
掩膜夾具類型 真空吸附和機械夾取
均勻光束大小 4.25“ X 4.25“
支持接近式曝光，各種接觸式（真空接觸、軟接觸、硬接觸等）曝光
接觸式曝光特徵尺寸：
0.35 um@深紫外DUV：
0.5um@近紫外NUV；
0.6um@紫外UV；
接近式曝光特徵尺寸：
1um @ Gap為20 um；
2um @ Gap為50 um；
用途
更廣範圍（UV，DUV，NUV）的紫外光波長選擇，出射光強範圍: 8mW/cm2~40mW/cm2
支持恆定光強或恆定功率模式
廣泛套用於半導體、微電子、生物器件和納米科技領。
常見曝光機舉例：MYCRO美國製造的恩科優（N&Q）紫外曝光系統，適用於從特殊大小的基片到4尺寸很寬廣範圍材料的紫外或深紫外光曝光。NXQ400-6系統成功地套用於半導體製造，光電電子，平板，射頻微波，衍射光學，微機電系統，凹凸或覆晶設備和其他要求精細印製和精度對準的套用。
