epitaxial gases氣體工業名詞，半導體工業中在仔細選擇的襯底上採用化學氣相澱積(CVD)的方法生長一層或多層材料所用氣體稱為外延氣體。矽外延氣體有4種，即矽烷，二氯二氫矽，三氯氫矽和四氯化矽，主要用於外延矽澱積，多晶矽澱積，澱積氧化矽膜，澱積氮化矽膜，太陽能電池和其他光感受器的非晶矽膜澱積。外延生長是一種單晶材料澱積並生長在襯底表面上的過程。此外延層的電阻率往往與襯底不同。
