基本介紹
- 中文名：勻膠
- 外文名：Spin-on PR Coating
- 別名：旋轉塗膠
光刻工藝的基本步驟之一，也被稱為旋轉塗膠或甩膠，成底膜處理後，矽片要立即採用旋轉塗膠的方法塗上液相光刻膠材。矽片被固定在一個真空載片台上，它是一個表面上有很多真空孔以便固定矽片的平的金屬或聚四氯乙烯盤。一定數量的液體光刻膠滴在矽片上，然後矽片旋轉得到一層均勻的光刻膠圖層。不同的光刻膠要求不同的旋轉塗膠條件。
膠的厚度可以通過旋轉的速度控制。除了通常的高速旋轉的方法外，光刻膠還可以用噴塗(spray coating)的方法（噴霧器的原理）施加到襯底表面。
光刻工藝的八個基本步驟
為方便起見，可將光刻的圖形形成過程分為8個步驟，即氣象成底膜，旋轉塗膠，軟烘，對準和曝光，曝光後烘焙，顯影，堅膜烘焙，顯影檢查。
光刻塗膠方法
旋轉塗膠有4個基本步驟（圖1）：
- 分滴。當矽片靜止或旋轉得非常緩慢時，光刻膠被分滴在矽片上。
- 旋轉鋪開。快速加速矽片的旋轉到一高的轉速（rpm）使光刻膠伸展到整個矽片表面。
- 旋轉甩掉。甩去多餘的光刻膠，在矽片上得到均勻的光刻膠膠膜覆蓋層。
- 溶劑揮發。以固定轉速繼續旋轉已塗膠的矽片，直至溶劑揮發，光刻膠膠膜幾乎乾燥。
圖1 旋轉塗膠的四個步驟
旋轉塗膠設備
矽片旋轉塗膠在自動矽片軌道系統中進行，這種系統具有自動矽片傳送裝置，在各步操作中傳送矽片。自動傳動可使顆粒產生和矽片損傷最小化。
旋轉塗膠參數
滴膠量很大程度上取決於光刻膠的粘度，矽片上光刻膠厚度和均勻性是非常關鍵的質量參數，環境控制也是光刻膠分滴的重要參數之一。
去除邊圈
在矽片旋轉過程中，由於離心力光刻膠向矽片邊緣流動並流到背面。光刻膠在矽片邊緣和背面隆起叫邊圈。當乾燥時，光刻膠剝落並產生顆粒。這些顆粒可能會導致沾污和故障。因此光刻膠旋轉塗膠器配備了一種邊圈去除裝置，還有一些光刻設備在正常的矽片曝光後用雷射曝光矽片的邊緣，這種曝光軟化了光刻膠並使邊圈在正常的顯影步驟中或者被設計的噴嘴噴出溶劑去除。
