刻蝕修飾法

刻蝕修飾法是在定向自組裝工藝中實現中性襯底中部分區域非中性化的一種手段。

基本介紹

• 中文名：刻蝕修飾法
• 外文名：trim-etch approach

圖1的“刻蝕修飾法”方案則是由Paul Nealey和他的學生Chichun Liu 所發明，該方案主要工藝步驟如下：

1. 通過旋塗、退火、清洗製作非中性的 PS 層；
   
2. 使用浸沒式光刻在 PS 層上製作出光刻膠條狀結構；
   
3. 使用離子刻蝕修飾光刻膠條寬度並轉移至 PS 層上；
   
4. 使用專用有機溶劑去除光刻膠；
   
5. 在沒有 PS 的區域製作中性層；
   
6. 洗去未接上的中性層材料，形成最終化學誘導襯底。
   

圖1 刻蝕修飾法

刻蝕修飾法因為襯底表面完全水平，因此獲得的工藝視窗較大，缺陷較少，但是工藝複雜，控制難度大。