LCVD

LCVD雷射化學沉積就是用雷射束的光子能量激發和促進化學反應的薄膜沉積方法。雷射化學氣相沉積的過程是雷射分子與反應氣分子或襯材表面分子相互作用的工程。

按雷射作用的機制可分為雷射熱解沉積和雷射光解沉積兩種。前者利用雷射能量對襯底加熱，可以促進襯底表面的化學反應，從而達到化學氣相沉積的目的，後者利用高能量光子可以直接促進反應氣體分子的分解。