芶富均

芶富均，中國國籍，博士，四川大學研究員，四川大學博士生導師。

基本介紹

• 中文名：芶富均
• 國籍：中國
• 學位/學歷：博士
• 職務：四川大學博士生導師
• 職稱：教授

人物經歷

2000-2010年期間留學英國，荷蘭，比利時。在電漿物理、電漿醫學、新型電漿源開發、液態金屬迴路、液態金屬儲能等方面取得了創新性研究成果。

社會任職

首批受聘科技部國際熱核反應堆國內專項課題負責人，真空科學與技術學報理事，中國電工技術學會電子束離子束專業委員會委員，The Open Surface Science Journal雜誌編委。

研究領域

1. 電漿與壁材料相互作用研究

2. 電漿醫學

3. 液態金屬迴路

4. 液態金屬儲能

學術成果

撰寫英文專著2部。國內外著名期刊上共發表研究論文70餘篇。主持ITER專項國內配套項目子課題2項，自然科學基金1項。

代表性論文：

[1] F. Gou, M. A. Gleeson, A. W. Kleyn, Theoretical modeling of energy redistribution and stereodynamics in CFscattering from Si (100) under grazing incidence, Phys. Chem. Chem. Phys. 8, 5522 (2006)

[2] F. Gou, Molecular dynamics simulation of deposition and etching of Si bombarding by energetic SiF, Applied Surface Science253, 5467（2007）

[4] F. Gou, M. A. Gleeson, A. W. Kleyn, CH3 interaction with Si (100)-(2x1): Molecular Dynamics Simulation, Surface Science 601, 3965(2007)

[5] F. Gou, A. Gleeson, A. W. Kleyn，The application of molecular dynamics to the study of plasma-surface interactions: CFx with silicon, International Review of Physical Chemistry 27, 229-271 (2008)

[6] F. Gou, S. Tink, E. Neyts, A. Boargart, Molecular Dynamics Simulations of Cl+ Etching on a Si(100) Surface, Journal of Applied Physics. Accepted