胡國行,男,中國科學院大學專任教師。
基本介紹
- 中文名:胡國行
- 國籍:中國
- 畢業院校:浙江大學
- 學位/學歷:博士
人物經歷,教育背景,工作經歷,科研成果,專利成果,出版信息,科研項目,參與會議,
人物經歷
教育背景
2007-09--2011-07 中科院上海光學精密機械研究所 博士研究生
2006-09--2007-07 中國科學技術大學 研究生
2002-09--2006-07 浙江大學 大學本科、黨支部副書記
工作經歷
2014-09~2018-06,中科院上海光學精密機械研究所, 副研究員
2011-07~2014-09,中科院上海光學精密機械研究所, 助理研究員
2007-09~2011-07,中科院上海光學精密機械研究所, 博士研究生
2006-09~2007-07,中國科學技術大學, 研究生
2002-09~2006-07,浙江大學, 大學本科、黨支部副書記
科研成果
專利成果
( 1 ) 橢偏儀測量超薄膜層的精度提升方法和裝置, 2016, 第 1 作者, 專利號: 201610852448.5
( 2 ) 超薄薄膜厚度和光學常數的測量裝置和測量方法, 2016, 第 1 作者, 專利號: 201610415169.2
( 3 ) 光學元件體內雷射損傷自動快速探測裝置, 2016, 第 1 作者, 專利號: 201310161404.4
( 4 ) 高溫環境下光學元件雷射損傷閾值測試裝置, 2015, 第 4 作者, 專利號: 201520029601.5
( 5 ) 提高光學元件小光斑掃描雷射預處理效率的方法, 2015, 第 5 作者, 專利號: 201310566601.4
出版信息
發表論文
(1) 基於表面電漿共振成像橢偏技術測量超薄膜層光學常數, Measuring optical constants of ultrathin layers using surface-plasmon-resonance-based imaging ellipsometry, Applied Optics, 2017, 通訊作者
(2) 基於電漿共振橢偏技術提升超薄膜層表征精度, High-precision measurement of optical constants of ultra-thin coating using surface plasmon resonance spectroscopic ellipsometry in Otto-Bliokh configuration, Optics Express, 2017, 第 1 作者
(3) 採用高精度分光光度計分析各類光學損耗, Measurement of different types of optical loss using high-precision laser photometer, Measurement Science and Technology, 2017, 通訊作者
(4) 雷射預處理技術對散射缺陷和吸收的抑制作用, Mitigation of scattering defect and absorption of DKDP crystals by laser conditioning, Optics Express, 2015, 通訊作者
(5) 晶體材料缺陷表征分析, Characterization of inclusions in DKDP crystals, Chinese Optics Letters, 2015, 通訊作者
(6) 連續過濾技術生長的KDP晶體性能分析, Performance of rapid-grown KDP crystals with continuous filtration, High Power Laser Science and Engineering, 2015, 第 1 作者
(7) 利用化學刻蝕和快速成像法揭示熔石英表面損傷誘導源, Combining wet etching and real-time damage event imaging to reveal the most dangerous laser damage initiator in fused silica, Optics Letters, 2013, 第 1 作者
(8) 化學膜表面損傷誘導源分析, Real-time damage event imaging reveals the absorber inducing laser damage with low density in solgel antireflective coatings, J. Opt. Soc. Am. B, 2013, 第 1 作者
(9) 預處理前後DKDP晶體元件透過率變化揭示吸收特性變化, Transmittance increase after laser conditioning reveals absorption properties variation in DKDP crystals, Optics Express, 2012, 第 1 作者
(10) 晶體損傷形貌的波長依賴性揭示損傷機理, Wavelength Dependence of Laser-Induced Bulk Damage Morphology in KDP Crystal: Determination of the Damage Formation Mechanism, Chinese Physics Letters, 2012, 第 1 作者
(11) 研究損傷形貌解釋亞表面缺陷特性, Studies of laser damage morphology reveal subsurface feature in fused silica, Surface and Interface Analysis, 2010, 第 1 作者
(12) KDP和DKDP晶體雷射損傷特性, Characteristics of 355 nm Laser Damage in KDP and DKDP Crystals, Chinese Physics Letters, 2009, 第 1 作者
(13) KDP和DKDP晶體雷射損傷熱過程模型, A Thermal Approach to Model Laser Damage in KDP and DKDP Crystals, Chinese Physics Letters, 2009, 第 1 作者
(14) KDP和DKDP晶體表面和體損傷生長機理研究, Growth Characteristics and Mechanism of Surface and Bulk Damage in KDP and DKDP Crystals, Chinese Physics Letters, 2009, 第 1 作者
(15) 不同切向KDP和DKDP晶體的1-on-1和R-on-1損傷測試分析, One-on-One and R-on-One Tests on KDP and DKDP Crystals with Different Orientations, Chinese Physics Letters, 2009, 第 1 作者
科研項目
( 1 ) 用於光環境生物學效應研究的裝備研製, 主持, 部委級, 2015-05--2016-12
( 2 ) 中大口徑光學材料損傷性能檢測與脈衝壓縮驗證研究, 主持, 國家級, 2015-07--2016-06
( 3 ) 瞬態缺陷誘導雷射損傷的物理過程及機理研究, 主持, 國家級, 2015-01--2017-12
( 4 ) 用於空間遙感器件的折射率動態調控新材料, 主持, 國家級, 2016-12--2019-11
( 5 ) 中大口徑光學材料損傷性能檢測與脈衝壓縮驗證研究, 主持, 國家級, 2014-07--2015-06
( 6 ) **項目, 主持, 國家級, 2017-07--2018-03
( 7 ) 低氘化率DKDP晶體生長工藝研究, 主持, 國家級, 2017-07--2017-12
( 8 ) 青促會, 主持, 部委級, 2018-01--2021-12
參與會議
(1)Laser conditioning mechanism revealed by defect and absorption variation in the bulk and at the surface of KDP/DKDP crystals 國際雷射損傷會議 2016-09-24
(2)Performance of rapid-grown KDP crystals with continuous filtration 環太雷射損傷會議 Guohang Hu, Yueliang Wang, Junxiu Chang, Xiaoyi Xie, Yuanan Zhao, Hongji Qi, and Jianda Shao 2015-05-17
