真空離子電鍍

真空離子電鍍概括

名稱

vacuum plating簡稱（PVD或真空電鍍）

真空離子電鍍主要包括

真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型。它們都是採用在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時具有速度快附著力好的突出優點，但是價格也較高，可以進行操作的金屬類型較少，一般用來作較高檔產品的功能性鍍層，例如作為內部禁止層使用。常見的塑膠產品電鍍工藝有兩種：水電鍍和真空離子鍍.

真空離子鍍，亮度高．而相對其他的鍍膜法來說，成本較低，對環境的污染小。

真空離子電鍍適用範圍

真空電鍍適用範圍較廣，如ABS料、ABS+PC料、PC料的產品.同時因其工藝流程複雜、環境、設備要求高，單價比水電鍍昂貴.現對其工藝流程作簡要介紹：產品表面清潔--〉去靜電--〉噴底漆--〉烘烤底漆--〉真空鍍膜--〉噴面漆--〉烘烤面漆--〉包裝.

真空離子電鍍的做法

一般真空電鍍的做法是在素材上先噴一層底漆，再做電鍍．由於素材是塑膠件，在注塑時會殘留空氣泡，有機氣體，而在放置時會吸入空氣中的水分．另外，由於塑膠表面不夠平整，直接電鍍的工件表面不光滑，光澤低，金屬感差，並且會出現氣泡，水泡等不良狀況．噴上一層底漆以後，會形成一個光滑平整的表面，並且杜絕了塑膠本身存在的氣泡水泡的產生，使得電鍍的效果得以展現．

真空離子電鍍可分類

一般真空電鍍、UV真空電鍍、真空電鍍特殊.工藝有蒸鍍、濺鍍、槍色等.

真空離子電鍍工藝

真空蒸鍍法是在高度真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發，冷卻後在塑膠表面形成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點金屬。

加熱金屬的方法：有利用電阻產生的熱能，也有利用電子束的。

在對塑膠製品實施蒸鍍時，為了確保金屬冷卻時所散發出的熱量不使樹脂變形，必須對蒸鍍時間進行調整。此外，熔點、沸點太高的金屬或合金不適合於蒸鍍。

置待鍍金屬和被鍍塑膠製品於真空室內，採用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑膠製品表面凝聚成金屬薄膜。

在真空條件下可減少蒸發材料的原子、分子在飛向塑膠製品過程中和其他分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應（如氧化等），從而提供膜層的緻密度、純度、沉積速率和與附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內壓力等於或低於10-2Pa，對於蒸發源與被鍍製品和薄膜質量要求很高的場合，則要求壓力更低（ 10-5Pa ）。