手印真空鍍膜顯現法

手印真空鍍膜顯現法是高真空狀態下在手印承受客體表面餐膜顯現手印的方法。用真空鍍膜機將金屬或非金屬元素蒸發成氣體分子，噴鍍到手印承受客體表面，利用留有手印物質部位與其他部位澱積蒸發元素分子的差別顯現出手印紋線。適用範圍較廣，能顯出遺留時間較長的陳舊手印。

顯現出的手印紋線連貫，細節特徵清晰，並可能顯出紋線中的汗孔特徵。經其他方法顯色的效果不佳或未顯出手印時，還可採用鍍膜法補救或再顯。該法要求一定的儀器設備，只能將留有手印的物體提取後，在實驗室內操作。