無定形氮化矽膜

無定形氮化矽膜amorphous silicon nitride film 5i3l}ia一種無定形結構的絕緣膜，但一也存在微晶結構。

禁頻寬度約S.DeV，密度3.1gIcm3，介電常數7.5，折射率2 . fly，電阻率約1D1}SE}m。在緩衝氟化氫腐蝕液中的腐蝕速率0.5 -- Inm/min.採用直接氧化、蒸發、等離子增強化學氣相沉積等方法制各_}1半導休矽器件的優良鈍化膜。