次離子質譜法

次離子質譜法是指當初級離子束(Ar+，O2+，N2+, O-，F-，N -或Cs+等) 轟擊固體試樣表面時，它可以從表面濺射出各種類型的二次離子，利用離子在電場，磁場或自由空間中的運動規律，通過質量分析器，可以使不同質荷比的離子分開，經分別計數後可得到二次離子強度-質荷比關係曲線的分析方法。

離子源用以獲得離子束的裝置。在各類離子源中，用得最多的是電漿離子源，即用電場將離子從一團電漿中引出來。這類離子源的主要參數由電漿的密度、溫度和引出系統的質量決定。屬於這類離子源的有:潘寧放電型離子源射頻離子源、微波離子源、雙電漿源、富立曼離子源等。另一類使用較多的離子源是電子碰撞型離子源，主要用於各種質譜儀器中。