數碼雷射成像與顯示國家地方聯合工程研究中心(以下簡稱：工程研究中心)於2011年11月獲國家發改委批准掛牌。工程研究中心以企業為建設主體，通過產學研相結合，建立一個運行機制最佳化、創新目標清晰、產業套用牽引的創新平台。
(一)工程研究中心構成
工程研究中心是由蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司(以下簡稱：蘇大維格公司)、蘇州大學、中科院蘇州納米技術與納米仿生研究所聯合參與建設，其中，蘇大維格公司為承建單位。共建單位蘇州大學“微納光學”投入研發經費3000萬元，用於大型儀器設備採購和實驗室建設。項目實施後，蘇州工業園區管委會將提供全面支持。
(二)主要研究方向
1、微納製造關鍵技術與裝備：重點建立高端微納製造的研發能力，研發微納光刻、納米壓印關鍵技術與裝備。提升行業的核心競爭力。
2、納米印刷技術：重點突破面向無油墨納米印刷的關鍵技術與行業套用，採用納米壓印技術實現微納結構表達的3D圖像，進行行業推廣套用。
3、功能光電顯示材料與器件：面向顯示與照明、觸控行業的重大需求，研究節能、環保的先進功能材料與器件，攻克超薄導光、微納格線透明導電膜的核心技術，實現產業套用。
4、微納界面工程：研究微納結構實現不同性能器件的方法與系統，建立面向產業鏈的綜合工程研發和配套能力。重點研究UV納米製造工藝和功能結構設計，提供可以進行工程的前瞻性研究成果。
（三）科研條件
工程研究中心的實驗室有：“大幅面雷射干涉光刻裝置”、“大幅面精密雷射圖形直寫實驗室”、“精密微納模具與電鑄實驗室”、“納米壓印實驗室”、“大口徑衍射光學器件實驗室”、“大幅面光刻膠塗布實驗室”、“導光與增亮器件實驗室”。
工程研究設施:柔性製造與材料中試線(大型塗布系統、蒸鍍設備、轉移設備、刻蝕設備、納米壓印設備)；大尺寸微納圖形化系統與器件中試線。擁有大型微納圖形光刻設備、紫外雷射直寫設備、3D雷射全息製版光刻設備、無掩膜光刻直寫設備、雷射刻蝕設備、感應離子刻蝕設備、光子晶體直寫設備、納米組裝設備、超薄導光生產與中試線、UV柔性製造中試線；光、機、電、算、新材料工藝一體化研究與實驗條件。
配備了3D掃瞄器、台階儀、原子力顯微鏡、亮度色度儀、影像測試儀、光譜儀、尼康高倍顯微鏡、ICP，RIE，光刻機和系列型號雷射光源。
（四）科研成果
1、建立基於納米印刷新型產業基地。微納結構產品在洋河藍色經典、勁嘉科技、中興通訊、華為科技、Nokia等企業得到套用。
2、金屬格線透明導電膜在大尺寸觸控感測器的產業化。2013年建立27寸（門幅寬度435mm-1300mm）卷對卷透明導電膜觸控感測器的產線。自主研發了核心技術裝備和產線，填補了我國大尺寸觸控屏核心技術的行業空白，將是我國該領域取得重大突破的重大目標產品。
3、AMOS技術產業化。AMOS(Activematrixopticalsystem)技術是一項新型光學安全元件技術。它具有很多獨特的視覺特徵，如異向移動、同向移動、3D等多種效果。這一技術在高端光學視覺安全元件中有重要套用前景。課題組利用自主研製的雷射直寫製版設備、UV卷對卷納米壓印設備，開展了AMOS技術的批量化技術研究與套用，目前已進入小試階段。
4、承擔了國家863專項、國家重大科學儀器專項、國家國際合作專項等多個國家、省級重大項目，並與相關上下游企業建立產業合作關係，與冠捷集團、京東方、小米、德普特、業際、勁佳科技等建立產業合作，加強了與芬蘭國家技術研究院VTT建立了國際科技合作關係，與國際著名的觸控企業建立了研發與供應關係。
