掩模曝光系統精密度和準確度的表示準則

《掩模曝光系統精密度和準確度的表示準則(GB/T 16879-1997)》等同採用1994年SEMI標準版本“微型構圖”部分中的SEMI P21—92《掩模曝光系統精密度和準確度的表示準則》（Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment）。SEMI標準是國際上公認的一套半導體設備和材料國際標準。SEMI P21—92《掩模曝光系統精密度和準確度的表示準則》是其中的一項，它將與已經轉化的SEMI P1—92《硬面光掩模基板》、SEMIP2—86《硬面光掩模用鉻薄膜》、SEMI P3—90《硬面感光板中光致抗蝕劑和電子抗蝕劑》、SEMI P4—92《圓形石英玻璃光掩模基板》、SEMI P6—88《光掩模定位標記規範》及SEMI P19—92《用於積體電路製造技術的檢測圖形單元規範》和SEMI P22—93《光掩模缺陷分類和尺寸定義的指南》兩項SEMI標準形成一個微型構圖示準系列。

基本介紹

• 書名：掩模曝光系統精密度和準確度的表示準則
• 作者：國家技術監督局
• 出版日期：1997年12月1日
• 語種：簡體中文
• ISBN：155066114348
• 外文名：Guidelines for Precision and Accuracy Expression for Mask Writing Equipment
• 出版社：中國標準出版社
• 頁數：4頁
• 開本：16
• 品牌：中國標準出版社

內容簡介

《掩模曝光系統精密度和準確度的表示準則(GB/T 16879-1997)》是根據SEMI標準P21—92《掩模曝光系統精密度和準確度的表示準則》制定的。在技術內容上等同地採用了該國際標準。《掩模曝光系統精密度和準確度的表示準則(GB/T 16879-1997)》的格式和結構按國標GB/T 1.1—1993第一單元第一部分的規定編制。《掩模曝光系統精密度和準確度的表示準則(GB/T 16879-1997)》從1998年3月1日實施。《掩模曝光系統精密度和準確度的表示準則(GB/T 16879-1997)》由中國科學院提出。《掩模曝光系統精密度和準確度的表示準則(GB/T 16879-1997)》由電子工業部標準化研究所歸口。《掩模曝光系統精密度和準確度的表示準則(GB/T 16879-1997)》起草單位：中國科學院微電子中心。《掩模曝光系統精密度和準確度的表示準則(GB/T 16879-1997)》主要起草人：陳寶欽、陳森錦、廖溫初。

圖書目錄

前言
1範圍
2引用標準
3精密度和準確度的定義、表示方式、測量方法和要求
4說明事項