為了同時獲得對掩模上水平線條和垂直線條的解析度，可以把水平雙極和垂直雙極組合起來。這種照明被稱為四級照明（Quadra Illumination），如圖1（a）所示。
基本介紹
- 中文名：四極照明
- 外文名：Quadra Illumination
為了同時獲得對掩模上水平線條和垂直線條的解析度，可以把水平雙極和垂直雙極組合起來。這種照明被稱為四級照明（Quadra Illumination），如圖1（a）所示。
圖1 四極照明和改進的四極照明(C-QUARSAR)
四級照明的光源對稱地位於X軸和Y軸上，它由兩個參數來定量描述：σc和σi。這種對稱的四極照明可以為X方向和Y方向的線條提供等價的解析度。對四極照明做小的改動，就可以得到所謂的C-QUARSAR照明，如圖1（b）所示；有三個參數來定量地描述C-QUARSAR照明：θ、σc和σi。這也是用得比較多的一種照明方式，特別是在ASML的光刻機上。把圖1中的四極照明旋轉45°，就可以得到另外兩種照明方式，如圖2所示。
圖2 旋轉 45°後的四極照明(a)與(b)對於旋轉 45°的密集線條(c)有最好的解析度
若是圖形是二維的，為了滿足掩模上X方向圖形的解析度，光源在Y方向上應當也有一對對稱的光源點，這樣就形成了四極型光源，如圖3(a)所示。實際套用中，上述的雙極型、四極型類型的光源往往並不常見，因為其僅能對一維圖形的側邊提供較好的解析度，對線條末端的表現則往往較弱。因此，會將圓形光源點拉伸成C型，形成C型雙極(30°/60°/120°)、C型四極、環型等形式的光源，如圖3(b)，(c)和(d)所示。這些光源中，不在X軸或Y軸上的光源點一定程度上會照顧到二維圖形的末端、拐點、接觸孔等結構的表現，增加整體的工藝視窗。
圖3 OAI光源類型
