PVD離子鍍膜機

PVD離子鍍膜機是一種用於材料科學、機械工程領域的科學儀器，於2014年4月29日啟用。

基本介紹

• 中文名：PVD離子鍍膜機
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學、機械工程
• 啟用日期：2014年4月29日

技術指標

最高沉積溫度：500℃； 電弧靶4個，離子源1個， 磁控靶2個，HIPPMIS 1個。

主要功能

PVD塗層鍍膜製備。