MIS(金屬絕緣層半導體結構)

MIS結構,即Metal-Insulator-Semiconductor(金屬-絕緣層-半導體)結構

基本介紹

  • 中文名:金屬-絕緣層-半導體
  • 外文名:Metal-Insulator-Semiconductor
  •  簡寫:MIS
  • 範疇:物理學
理想情況下,MIS結構滿足:
1. 金屬與半導體之間功函式差為零。即金屬與半導體之間無電壓,也就是說不會對絕緣層加壓
2. 絕緣層內沒有電荷存在,完全不導電
3. 絕緣層與半導體之間的界面處不存在任何界面態

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