高功率微波源與技術

高功率微波源與技術

《高功率微波源與技術》是2005年06月清華大學出版社出版的圖書,作者是貝克。

基本介紹

  • 書名:高功率微波源與技術
  • 頁數:457 頁
  • 出版社:清華大學出版社
  • 出版時間:2005年06月
基本信息,內容簡介,目錄,

基本信息

·作者:(美)貝克
·出版社:清華大學出版社
·頁碼:457 頁
·出版日期:2005年06月
·ISBN:7302106533
·條形碼:9787302106531
·版本:第1版
·裝幀:精裝
·開本:16開

內容簡介

本書概述了美國近年來在高功率微波源和相關技術研究領域的主要進展,重點討論了由美國國防部MURI計畫資助所獲得的高功率微波源及基相關技術的最新研究成果。
全書共分12章。第1章為概述;第2章綜述了美國國防部感興趣的HPM技術研究現狀;第3-6章介紹HPM源和脈衝縮短效應的研究進展;第7-11章論述了HPM源的物理機制及其實用化的一些關鍵技術進展;第12章描述了對本領域研究未來發展的展望。
本書的讀者對象為對高功離微波源技術感興趣的研究人員和工程技術人員。

目錄

第1章 引言
1.1 目的
1.2 高功率微波
1.3 本書的結構與範圍
參考文獻
第2章 高功率微波源:美國國防部展望
2.1 引言
2.2 國防部在基礎研究中的作用
2.3 國防部的需要
2.4 歷史
2.5 高功率微波研究的進展
2.6 需要發展的關鍵技術
2.7 總結
2.8 致謝
參考文獻
第3章
3.1 引言
3.2 主要吉瓦級高功率微波源
3.3 未來發展和總結
參考文獻
第4章 脈衝縮短
4.1 引言
4.2 早期的研究成果概述
4.3 最新研究進展
4.4 結論
參考文獻
第5章 相對論Cerenkov器件
第6章 迴旋管振盪器和放大器
第7章 高功率微波器件中的動態電漿載入
第8章 束流傳輸與射頻控制
第9章 陰極與電子槍
第10章 視窗與射頻擊穿
第11章 計算技術
第12章 其他途徑及未來的挑戰
參考文獻

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