電子水處理器是當今世界水工業領域的一項最新技術，該產品製造工藝先進，設計合理占地小，安裝操作簡便，無污染，性能穩定，運行費用低，使用壽命長，一次投資，多年受益。是目前給排水及暖通空調冷卻系統，防垢除垢、殺菌滅藻、活化水質，緩蝕的新一代產品。純水在電子工業尤其是電子元器件生產中的重要作用日益突出，純水水質已成為影響電子元器件產品質量、生產成品合格率及生產成本的重要因素之一，水質要求也越來越高。在電子元器件生產中，高純水主要用作清洗用水及用來配製各種溶液、漿料，不同的電子元器件生產中純水的用途不同，因此對水質的要求也不同。
基本介紹
- 中文名：電子水處理
- 實質：水工業領域的一項最新技術
- 功能特徵：防垢除垢等
- 特徵：製造工藝先進，設計合理占地小
產品介紹,套用範圍,功能特徵,技術參數,工作原理,安裝與使用,
產品介紹
在電解電容器生產中，鋁箔及工作件的清洗需用純水，如水中含有氯離子，電容器就會漏電。在電子管生產中，電子管陰極塗敷碳酸鹽，如其中混入雜質，就會影響電子的發射，進而影響電子管的放大性能及壽命，因此其配液要使用純水。在顯像管和陰極射線管生產中，其螢光屏內壁用噴塗法或沉澱法附著一層螢光物質，是鋅或其他金屬的硫化物組成的螢光粉顆粒並用矽酸鉀粘合而成，其配製需用純水，如純水中含銅在8ppb以上，就會引起發光變色;含鐵在50ppb以上就會使發光變色、變暗、閃光跳躍;含有機物膠體、微粒、細菌等，就會降低螢光層強度及其與玻殼的粘附力，並會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。在黑白顯像管螢光屏生產的12個工序中，玻殼清洗、沉澱、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個工序需使用純水，每生產一個顯像管需用純水80kg。液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液，如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質，就會使液晶顯示電路發生故障，影響液晶屏質量，導致廢、次品。
在電晶體、積體電路生產中，純水主要用於清洗矽片，另有少量用於藥液配製，矽片氧化的水汽源，部分設備的冷卻水，配製電鍍液等。積體電路生產過程中的80%的工序需要使用高純水清洗矽片，水質的好壞與積體電路的產品質量及生產成品率關係很大。水中的鹼金屬(K、Na等)會使絕緣膜耐壓不良，重金屬(Au、Ag、Cu等)會使PN結耐壓降低，Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)會使N型半導體特性惡化，Ⅴ族元素(P、As、Sb等)會使P型半導體特性惡化，水中細菌高溫碳化後的磷(約占灰分的20-50%)會使P型矽片上的局部區域變為N型矽而導致器件性能變壞，水中的顆粒(包括細菌)如吸附在矽片表面，就會引起電路短路或特性變差。
膜技術在純水製造中的套用
純水製造中套用的膜技術主要有電滲析(ED)、反滲透(RO)、納濾(NF)、超濾(UF)、微濾(MF)。
純水製造中常用的膜技術
與傳統的水處理技術相比，膜技術具有工藝簡單、操作方便、易於自動控制、能耗小、無污染、去除雜質效率高、運行成本低等優點，特別是幾種膜技術的配合使用，再輔之以其他水處理工藝，如石英砂過濾、活性炭吸附、脫氣、離子交換、UV殺菌等，為去除水中的各種雜質，滿足日益發展的電子工業對高純水的需要，提供了有效而可靠的手段，而且也只有套用了多種膜技術，才能生產出合格、穩定的高純水，才能生產出大規模、超大規模、甚大規模積體電路(LSI、VLSI、ULSI)，從而使計算機、雷達、通訊、自動控制等現代電子工業的發展和套用得以實現。值得一提的是：當原水的含鹽量大於400mg/L時，純水製造的除鹽工序採用RO-離子交換工藝後，比早先單用離子交換可節約酸、鹼約90%左右，使離子交換柱的周期產水量提高10倍左右，事實證明，可以降低純水製造的運行費用和制水成本，可以減少工人的勞動強度，可以減少對環境的污染，並可使純水水質得到提高並長期穩定。據統計，在我國電子工業引進的純水製造系統中，有RO的約占系統總數的90%，有UF的約占20%，有MF的幾乎為100%，而ED在我國國產的純水系統特別是早期投產的純水系統，以及為數眾多的對純水水質要求不高的一般電子元器件(如電阻、電容、黑白顯像管、電子管等)製造廠的純水系統中占有相當的比例。
微電子工廠純水站使用膜技術實況
現以某微電子工廠中的某一純水站使用膜技術的實況，說明膜技術在電子工業純水製造中的套用。
1.前級UF
前級UF是用於去除水中的懸濁物、膠體及有機物，降低水的SDI值，確保RO的安全運行。前級UF有5組，每組45根組件，共225根組件，進水280m3 /h，透過水250 m 3 /h，濃縮水排放，回收率約90%。UF前採用5μm保全過濾器。
2.一級RO
水中加入還原劑Na 2 SO 3 (加藥量為水中余氯值的1.8倍)以防止余氯氧化腐蝕RO膜，加入防垢劑(NaPO 3 ) 6 (加藥量為5ppm)以防止CaCO3 、CaSO 4 等在RO膜上結垢，再經5μm 保全過濾器後由高壓泵打進一級RO。一級RO有4組，均為二段。其中三組為每組8根膜容器，呈(5+3)排列，第4組為11根膜容器，呈(8+3)排列，膜容器由FRP(玻璃鋼)製成，每根內裝6個RO膜元件，總共為210個RO膜元件，進水250m 3 /h，透過水188m3 /h，濃縮水排放，回收率為75%，脫鹽率>90%(初始脫鹽率>99%)，操作壓力1.55Mpa。RO膜元件採用芳香聚醯胺複合反滲透膜，膜元件平均脫鹽率99.5%。
3.二級RO
一級RO水箱出水中一部分進入A系統，先加NaOH(CP級)調節pH為8.2-8.6，使水中CO 2 生成HCO 3 - ，被二級RO除去，以減輕混床離子交換的負擔，採用二級RO可以使混床再生周期延長一倍，減少再生酸鹼耗量，並可進一步去除TOC和膠體物質。二級RO前採用3μm保全過濾器，二級RO為一組三段，共10根膜容器，按(6+3+1)排列，每根容器內裝6隻RO膜元件，共60隻RO膜元件，進水70m 3 /h，出水62m 3 /h，濃水排至超濾水箱，回收率為90%，脫鹽率>70%(初始脫鹽率>80%)，RO膜元件型號與一級RO膜元件相同。
4.後級UF
後級UF是用於去除水中的微粒、微生物、膠體、有機物等的終端過濾設備。
A系統後級UF為3組，每組18支，共54支組件，進水92 m 3 /h，出水90 m 3 /h，濃水排至一級RO水箱，回收率約98%。
B系統後級UF為8組，每組9支，共72支組件，進水168 m 3 /h，出水164 m 3 /h，回收率約98%。
C系統後級UF有3支組件，進水4 m 3 /h，出水3.9 m 3 /h，回收率約98%。
5.微濾
本系統的微濾可分為三類，第一類為前級UF、RO前的保全過濾器，用於去除水中的懸濁物微粒，降低水的SDI值，濾芯為PP(聚丙烯)膜摺迭式濾芯，孔徑為5μm或3μm。第二類在離子交換後，用於濾除離子交換樹脂碎片，濾芯為PP膜摺迭式濾芯，孔徑為1μm。第三類在UV殺菌器後，用於濾除微生物屍體，濾芯為N-6(尼龍6)膜摺迭式濾芯，孔徑為0.45μm或0.2μm。
套用範圍
功能特徵
一、防垢除垢
二、殺菌滅藻
三、防腐蝕
技術參數
1、處理效果
①.緩蝕率：≤0.125mm/a；
電子水處理
電子水處理②.阻垢、除垢率：≥90%；
③.殺菌、滅藻率：≥80%。
2、進水要求
①.總硬度（以CaCO3計）：≤800mg/L；
②.水溫：≤50℃（特殊情況可定製）；
③.流速：>1米/秒，≤2.8米/秒。
3、工作環境參數
①.工作壓力：≤1.6MPa；
②.系統壓力：≥0.3MPa；
③.工作電壓：220v±10%/50Hz；
④.工作溫度：-25℃—+95℃；
⑤.工作環境溫度：-25℃—+50℃；
⑥.相對濕度：<95%（溫度25℃時）。
工作原理
電子水處理器工作時，水流由進水口進入儀器內部，在高頻電磁場作用下，形成電磁極化水。這種水流經受熱體時，形成針狀結晶，成為鬆軟、沙狀軟垢，便於沉澱，不易板結於受熱面，可隨水流動，通過排污渠道排出，防止新垢產生，電磁極化水滲透性和偶極距增大可浸潤老垢，使之龜裂，脫落。此外，電磁極化水還可以殺滅水中的菌藻，抑制微生物的繁殖。因器壁金屬離解受到抑制，對無垢系統有防腐作用
設備選型表
型 號 | 進出水 管徑 （mm） | 處理流量 （m3/h） | 功率 （w） | 外型尺寸（mm） | 長(mm) | 重量（Kg） |
罐體直徑 φ | ||||||
QC-DZ/1.0-50 | 50 | 10-20 | 40 | 80 | 480 | 7 |
QC-DZ/1.0-65 | 65 | 20-30 | 45 | 95 | 500 | 12 |
QC-DZ/1.0-80 | 80 | 30-50 | 50 | 100 | 530 | 19 |
QC-DZ/1.0-100 | 100 | 50-80 | 60 | 108 | 550 | 23 |
QC-DZ/1.0-125 | 125 | 80-120 | 80 | 133 | 600 | 29 |
QC-DZ/1.0-150 | 150 | 120-180 | 100 | 159 | 650 | 35 |
QC-DZ/1.0-200 | 200 | 180-320 | 120 | 219 | 750 | 46 |
QC-DZ/1.0-250 | 250 | 320-500 | 140 | 273 | 750 | 58 |
QC-DZ/1.0-300 | 300 | 500-700 | 160 | 325 | 800 | 85 |
QC-DZ/1.0-350 | 350 | 700-1000 | 180 | 377 | 850 | 131 |
QC-DZ/1.0-400 | 400 | 1000-1200 | 200 | 426 | 900 | 162 |
QC-DZ/1.0-450 | 450 | 1200-1600 | 220 | 478 | 950 | 186 |
QC-DZ/1.0-500 | 500 | 1600-2000 | 250 | 529 | 1000 | 227 |
QC-DZ/1.0-600 | 600 | 2000-2800 | 300 | 630 | 1050 | 308 |
備 注 | 其它規格的設備，在訂貨時單獨提供有關外型尺寸參數。 |
安裝與使用
DC變頻電子除垢器採用國家標準管道和標準法蘭盤,水流速度<2.8m/s,以管道尺寸作為入口尺寸選用變頻電子除垢器,水流速度大於2.8m/s,或水質總硬度大於700CaCO3選用大一規格變頻電子除垢器。
DC變頻電子除垢器的設定，要求靠近用水設備，當幾台用水設備並聯時，可在供水乾管上設一台電變頻電子除垢器；當幾台用水設備串聯時，則須在每台用水主設備的進入管上分別設一台。
