雷射熱化學氣相沉積

中文名稱雷射熱化學氣相沉積
英文名稱laser thermal chemical vapor deposition
定  義雷射的能量只用於局部加熱基底,沉積只發生在基底被加熱的部分的化學氣相沉積。
套用學科材料科學技術(一級學科),材料科學技術基礎(二級學科),材料合成、製備與加工(三級學科),薄膜製備技術(四級學科)

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