金屬矽化物

金屬矽化物是指過渡金屬與矽生成的硬質化合物。由於矽原子半徑較大，不能與過渡金屬生成間隙化合物，因而這類硬質化合物化學成分穩定金屬矽化物具有好的抗氧化性。

基本介紹

• 中文名：金屬矽化物
• 外文名：metal silicide
• 分成：兩大類
• 釋義：金屬與矽生成的化合物
• 硬度：高
• 學科：材料工程

簡介

金屬矽化物是指過渡金屬與矽生成的硬質化合物。

原理

由於矽原子半徑較大，不能與過渡金屬生成間隙化合物，因而這類硬質化合物化學成分穩定金屬矽化物具有好的抗氧化性。

用途

由於矽與氧生成緻密氧化膜，能夠阻止氧在常溫和高溫對過渡金屬發生氧化作用，因此，矽化物可以作為保護層。多在超大規模積體電路中使用，如用作金屬柵、肖特基接觸、歐姆接觸等。

特性

矽化物熔點不高，熱導率高，而抗熱震性好，硬度較高，但脆性也大，有金屬光澤，電阻率低。用途最多的矽化物是MoSi，熔點2030℃，硬度HV1250，抗壓強度2310MPa，MoSi₂發熱體發熱溫度為1600℃，可長期使用，是空氣氣氛中溫度最高的發熱體之一，用自蔓延鋁熱法製造的彌散Al₂O₃，質點的MoSi₂發熱體，使用溫度可達1800℃，金屬、金屬氧化物加碳和矽反應，可製得矽化物。

分類

常分成兩大類：

(1)難熔金屬矽化物，指周期表IVB、VB、VIB族元素的矽化物，如矽化鈦、矽化鋯、矽化鉭、矽化鎢等；

(2)貴金屬和近貴金屬矽化物，如矽化鈀、矽化鉑、矽化鈷等。

其共同特點是：熔點高（大都在1500℃以上），最低共熔溫度高（大都在1000℃以上）。電阻率低(約為10^-7Ω·m)，硬度高。

製備方法

製備方法主要是用澱積金屬與矽的混合物燒結而成。澱積法主要有：蒸發、濺射、電鍍、化學氣相澱積等。