基本介紹
- 中文名：被動侵位
- 外文名：passive emplacement
- 原因：由構造作用導致體積膨脹
- 方式：沿著斷裂上升至地表淺部
形成原因,岩牆擴展作用,頂蝕作用,火山口沉陷作用,
形成原因
被動侵位作用包括岩牆擴展作用、頂蝕作用和火山口沉陷作用，岩漿是沿先存斷裂或構造缺陷，或是在區域性伸展作用下被動式侵位的。
岩牆擴展作用
深部岩漿沿著斷裂上升至地表淺部，在岩漿上升過程中岩漿運移的斷裂或通道不斷擴展、加寬，上升岩漿在淺部聚集形成大規模深成岩體。
(1)平面形狀為不規則狀；
(2)一般沒有內部構造；
(3)在侵位過程中圍岩的作用使被動的，侵人作用以前的圍岩在接觸面附近並未被擾動；
(4)接觸面彎曲，往往與圍岩互相穿插；
(5)在岩體邊緣常見有一些小規模頂蝕作用。
岩牆擴展機制是大陸伸展構造環境中岩漿上升侵位的重要機制。岩漿沿著由應力各向異性產生的張性斷裂上升。張性斷裂切割深度可以很大（達40km），並達到深部岩漿房。
頂蝕作用
由熱的岩漿在周圍引起的熱至爆裂及岩漿的裂塊下沉的同時向裂隙中的侵入作用，其發育常常局限於不整合侵入岩體的邊緣帶附近。
頂蝕作用形成的岩體，在內接觸帶常有不規則狀、稜角狀且規模不等的捕擄體，捕擄體與岩漿之間的反應引起同化和混染現象。頂蝕岩體與圍岩的接觸面常常呈凹凸不平狀，一般不發育由侵位產生的定向組構（朱志澄、宋鴻林，1990）。
火山口沉陷作用
這是基性深成岩體的典型侵位機制，指岩漿房頂蓋塌陷而形成環狀或鍋狀沉陷的岩漿侵位機制。岩體受伸展環境中的張性斷裂控制，基性岩漿沿斷裂上升定位於斷裂的潛在空位中，基性岩漿冷卻後形成環狀斷裂將岩體分割成環狀斷塊。
