自動掩模(automask)是2018年公布的生物物理學名詞。
基本介紹
- 中文名:自動掩模
- 外文名:automask
- 所屬學科:生物物理學
- 公布時間:2018年

自動掩模(automask)是2018年公布的生物物理學名詞。
自動掩模(automask)是2018年公布的生物物理學名詞。定義將單分子顆粒圖像進行濾波、二值化和二次濾波後的圖像進行計算生成的掩模。出處《生物物理學名詞》第二版。1...
掩模製作技術是半導體工藝技術中製作光刻工藝用的光複印掩蔽模版的技術。光掩模版 半導體積體電路製作過程通常需要經過多次光刻工藝,在半導體晶體表面的介質層上開鑿各種摻雜視窗、電極接觸孔或在導電層上刻蝕金屬互連圖形。光刻工藝需要一整套(幾塊多至十幾塊)相互間能精確套準的、具有特定幾何圖形的光複印掩蔽模版,...
無掩模直寫光刻系統 無掩模直寫光刻系統是一種用於機械工程領域的儀器,於2015年12月22日啟用。技術指標 1. 1微米解析度 2. 150mm*150mm有效直寫面積 3. 1微米對準精度 4. 200nm自動對焦精度。主要功能 微納無掩膜加工。
[31] 譚民,徐德,王秀青,趙曉光,劉雲,汪建華,掩模傳輸系統四象限對準裝置,2005年9月28日申請,2009年4月15日授權,發明專利號:ZL 2005 1 0105260.6 [32] 徐德,譚民,一種基於機器人運動的攝像機自標定方法已受理髮明專利編號:03155682.5 2003,9,12受理,2007-1-3授權,發明專利號:ZL 03155682.5...
無掩模亞微米光刻機成套設備是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器,於2009年11月16日啟用。技術指標 主要功能為光刻,設備包括以下五個部分:1. 光學系統(包括照明光源、成像、CCD對準、自動對焦四部分), 2. 位移平台系統(x、y、z位移平台和轉動系統), 3. 電氣系統(包括電源、機械部件), 4. 控制系統(...
布圖設計是根據微電子技術電路及其製造工藝的要求進行的掩模設計。布圖設計一般包含布局(電路元件、器件的安置)和布線(電路元件、器件的互連)兩個相互關連的設計步驟。布圖設計的主要任務是按給定的製造工藝條件,完成電路元件、器件的布置和元件間必需的互連,保證:晶片有較高的布圖密度;互連符合元件、器件的電學...
陳旭南 ,1944年7月出生於浙江省縉雲縣。1968年畢業於浙江大學光學儀器專業。長期從事光電工程技術、微細加工光學設備技術以及波前工程技術領域研究。完成了PCA—100圖象彩色分析儀、AMIS—1掩模缺陷自動檢測儀、電視測量經緯儀、精密測角儀、高分辨力CCD拼接相機、實時測量系統多片面陣CCD拼接技術、亞微米i線g線投影...
時間減影是DSA常用的方式,在注入的造影劑進入感興趣區之前將一幀或多幀影像作為掩模像存儲,並與按時間順序出現的造影像一一相減。這樣,兩幀中相同的影像部分被消除,而造影劑通過血管時形成的高密度部分被突出地顯示。這種工作方式因掩模像和造影像獲得的時間先後不同,故稱為時間減影。它的不足之處是,在攝影...
電子束曝光技術是光刻技術的延伸,是指利用某些有機聚合物對電子敏感的特性,將其加工成精細掩模圖形的曝光技術。它是近些年才發展起來的集電子光學,精密機械,超高真空,計算機自動控制技術於一體的新興技術。NBL 電子束曝光系統,是基於SEM電子束曝光系統的,它主要由主機、邏輯電路、高壓電櫃、觸摸控制四個部分組成...
長期從事光電跟蹤光學儀器和微電子光學設備的研究,1979年至今,參加JX-1型接近/接觸式光刻機,圓形電子束、可變矩形電子束曝光機雷射定位工件台系統,掩模缺陷自動檢測系統,1.5pan~2btm分步重複投影光刻機等研究工作。主持國家“八五”攻關項目O.8μm~1μm投影光刻機、中國科學院重...
投影曝光系統實為電子束圖形複印系統,它將掩模圖形產生的電子像按原尺寸或縮小後複印到工件上,因此不僅保持了高解析度,而且提高了生產率。基於改進掃描電鏡的電子束曝光系統 由於SEM的工作方式與電子束曝光機十分相近,最初的電子束曝光機是從SEM基礎上改裝發展起來的,近年來隨著計算機技術的飛速發展,將SEM改裝為曝光...
