脈衝雷射沉積Ta2O5薄膜過程及其性質研究

基本介紹

  • 中文名:脈衝雷射沉積Ta2O5薄膜過程及其性質研究
  • 外文名:Characterization and processing of Ta2O5 films deposited by pulsed laser ablation
  • 論文作者:傅正文
副題名
外文題名
Characterization and processing of Ta2O5 films deposited by pulsed laser ablation
論文作者
傅正文著
導師
秦啟宗教授指導
學科專業
物理化學
學位級別
d 1998n
學位授予單位
學位授予時間
1998
關鍵字
雷射燒蝕 薄膜技術 Ta2O5薄膜
館藏號
唯一標識符
108.ndlc.2.1100009031010001/T3F24.012002602544
館藏目錄
BSLW 1999 TN305 2\ \

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