胡曉君(浙江工業大學教師)

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人物名,有浙江工業大學教師。

基本介紹

  • 中文名:胡曉君
  • 國籍:中國
  • 職業:教授
  • 畢業院校:上海交通大學
浙江工業大學教師,人物簡介,研究方向,承擔項目,主要論文,教學工作,主要獲獎,

浙江工業大學教師

人物簡介

胡曉君,女,博士。2004年1月畢業於上海交通大學材料學專業,獲得博士學位。2004年5月到浙江工業大學從事教學科研工作。

研究方向

主要從事薄膜的製備與性能和計算材料科學方面的研究。目前的研究重點是金剛石薄膜的n型摻雜,並採用分子動力學模擬(Molecular dynamics simulation)和第一性原理方法對相關問題進行理論研究。作為項目負責人,承擔國家自然科學基金、浙江省教育廳科研項目、浙江工業大學引進人才科研啟動基金項目等研究工作。發表學術論文20多篇。2004年被評為浙江工業大學首批青年學術骨幹。2005年入選浙江省“151人才工程”第三層次。2006年12月獲浙江省科協“育才工程”資助。

承擔項目

(1) 國家自然科學基金:磷離子注入製備高電導率n型納米金剛石薄膜研究(50972129)項目負責人
(2) 國家自然科學基金:氧離子注入製備高質量低電阻率n型金剛石薄膜研究(50602039)項目負責人
(3) 浙江省教育廳項目:氧離子注入金剛石薄膜的電學性質研究 (D1015227)項目負責人
(4) 中國科學院高能物理研究所核分析重點實驗室資助課題“氧離子注入金剛石薄膜的缺陷研 究”(K127)項目負責人
(5) 浙江工業大學引進人才科研啟動基金項目。項目負責人
(6) 參與浙江省自然科學基金“納米陳列電極的製備及其對醇類小分子氧化的電催化性能研究”(Y405503,第三)

主要論文

1. X.J. Hu, Y.G. Shen, The roles of grain boundary and interfacial energies in the grain growth of nanocomposite films, Appl. Phys. Lett., 94, 2009, 093111 (IF: 3.77) (入選Virtual Journal of Nanoscale Science & Technology, 19(11), 2009.) 2. X.J. Hu, Y.G. Shen, X.P. Hao, B.Y. Wang, The structural properties of B-O codoped diamond films, Diamond & Related Materials, 18, 2009, 210 (IF:2.092) 3. X.J. Hu, Y.H. Lu, Y.G. Shen, The grain size distribution in nanocomposite films, Solid State Communications, 149, 2009, 903. 4. X.J. Hu, Z.J. Liu, Y.G. Shen, Mechanisms of amorphous-phase-dependent grain growth in two-phase nanocomposite films: A Monte Carlo analysis, Appl. Phys. Lett., 92, 2008, 021910 (IF: 3.77)(入選Virtual Journal of Nanoscale Science & Technology, 17(5), 2008。) 5. X.J. Hu, J.S. Ye, S. Mariazzi, R.S. Brusa, A Positron annihilation study on the defect properties of doped diamond films, Thin Solid Films, 516, 2008, 1699-1702 (IF: 1.88) 6. X.J. Hu, J.S. Ye, Q.S. Lu, G.Q. Zheng The structural properties of O and B-O ion implanted diamond films, The society of photo-optical instrumentation engineering (SPIE), 6984, 2008, 69840Q 7. X.J. Hu, J.S. Ye, G.Q. Zheng, H.Z. Cao, H.C. Tan, The influences of oxygen ion implantation on the electrical and structural properties of diamond films, Chinese Physics,15, 2006, 2170-2174 (SCI 收錄, IDS Number: 080UJ, EI 收錄, Accession number:, 影響因子:1.559) 8. X.J. Hu, Y.B. Dai, H.S. Shen, X.C. He, A molecular dynamics simulation on the structural properties of B and N co-existed in diamond, Physica B, 367, 2005, 86-91 (SCI 收錄, IDS Number: 967FD, EI 收錄, Accession number:響因子: 0.908) 9. X.J. Hu, R.B. Li, H.S. Shen, Y.B. Dai, X.C. He, The electrical and structural properties of boron and phosphorus co-doped diamond films, Carbon,42 (8-9), 2004, 1501-1506 (SCI 收錄, IDS Number: 828BP, EI 收錄, Accession number:影響因子: 3.120) 10. X.J. Hu, Y.B. Dai, H.S. Shen, X.C. He, Molecular dynamics simulation on boron diffusion in diamond, Solid State Communications,132(8), 557-560, 2004( SCI 收錄, IDS Number: 867UI, EI 收錄,Accession number:, 影響因子: 1.602) 11.X.J. Hu, Y.B. Dai, H.S. Shen, Z.M. Zhang, R.B. Li, X.C. He, A molecular dynamics study of interstitial boron in diamond, Physica B, 327, 2003, 39-42(SCI 收錄, IDS Number: 649NQ, EI 收錄, Accession number 影響因子: 0.908) 12. X.J. Hu, Y.B. Dai, H.S. Shen, Z.M. Zhang, R.B. Li, X.C. He, The diffusion of vacancy near a diamond (001) surface, Solid State Communications, 122, 2002, 45-48 (SCI 收錄,IDS Number: 556TW ; EI 收錄, Accession number:, 影響因子: 1.602) 13. 胡曉君,曹華珍,鄭國渠,曹帥, 摻硼濃度對金剛石薄膜電極電化學性能影響的研究,高校化學工程學報,2006,2006, 20(6), 932-937(EI收錄) 14. 胡曉君, 金剛石振動特性的分子動力學模擬,人工晶體學報34(6), 2005,1109-1112 (EI收錄) 15.胡曉君,李榮斌,何賢昶,沈荷生,戴永兵,硼磷共摻雜n型金剛石薄膜的Hall效應、紅外光譜和EPR研究,無機材料學報,19 (4) , 2004, 895 (SCI 收錄, IDS Number: 852SB) 16. 胡曉君,李榮斌,何賢昶,沈荷生,摻雜金剛石薄膜的缺陷研究,物理學報53, 2004, 6 (SCI 收錄, IDS Number: 828AZ, EI 收錄, Accession number:, 影響因子: 1.130) 17.胡曉君,李榮斌,沈荷生,戴永兵,何賢昶,低電阻率硼硫共摻雜金剛石薄膜的製備,半導體學報,2004, 8, 976

教學工作

主講本科生主幹專業基礎課程:《材料科學基礎》和《材料物理》。

主要獲獎

1) 2005年博士學位論文獲上海市優秀博士論文
(2) 2004年化材學院第四屆青年教師講課比賽二等獎
(3) 2006年化材學院第五屆青年教師講課比賽一等獎
(4) 2006年化材學院先進工作者

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