經典濃差擴散

經典濃差擴散是指傳統治金機械工業中常使用表面滲碳、滲氮及現代離子注入技術，其目的是向表面層引人一定量的異質元素，改變其相結構或化學組成，以達到提高硬度、改善韌性、提高耐磨及抗腐蝕性能，向半導體Si中注B、注P以製造pn結構。氧化膜的生長以及化工中催化反應等都涉及原子的物理擴散和化學反應。在這些工藝過程中，濃度差是引起原子擴散的基本推動力。Fick早已為這類經典擴散問題的處理，建立了一套完備的數學方法。其特點是在處理具體擴散體系時將不涉及材料的微觀缺陷，而只考慮擴散物種在空間的分布變化。

濃差擴散mn}entration diffusi。由濃度差引起的分子擴散:分子擴散是指兩種或兩種以上物質由於分子運動產生相互滲透而形成均一的混合物或溶液的過程。大多數情況下分子擴散的推動力就是兩點之間的濃度差。

膜分離過程中的一種現象，會降低透水率，是一個可逆過程。是指在超濾過程中，由於水透過膜而使膜表面的溶質濃度增加，在濃度梯度作用下，溶質與水以相反方向向本體溶液擴散，在達到平衡狀態時，膜表面形成一溶質濃度分布邊界層，它對水的透過起著阻礙作用。