紫外光清洗

紫外光清洗技術是利用有機化合物的光敏氧化作用達到去除黏附在材料表面上的有機物質，經過光清洗後的材料表面可以達到"原子清潔度"。UV光源發射波長為185nm和254nm的光波，具有很高的能量，當這些光子作用到被清洗物體表面時，由於大多數碳氫化合物對185nm波長的紫外光具有較強的吸收能力，並在吸收185nm波長的紫外光的能量後分解成離子、游離態原子、受激分子和中子，這就是所謂光敏作用。空氣中的氧氣分子在吸收了185nm波長的紫外光後也會產生臭氧和原子氧。臭氧對254nm波長的紫外光同樣具有強烈的吸收作用，臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是極活潑的,在它作用下，物體表面上的碳和碳氫化合物的分解物可化合成可揮發的氣體：二氧化碳和水蒸氣等逸出表面，從而徹底清除了黏附在物體表面上的碳和有機污染物。

基本介紹

• 中文名：紫外光清洗
• 基本原理：利用有機化合物的光敏氧化作用
• 套用範圍：可以去除污垢：有機性污垢、
• 主要材料：ITO玻璃、光學玻璃

基本原理

紫外光清洗技術是利用有機化合物的光敏氧化作用達到去除黏附在材料表面上的有機物質，經過光清洗後的材料表面可以達到"原子清潔度"。UV光源發射波長為185nm和254nm的光波，具有很高的能量，當這些光子作用到被清洗物體表面時，由於大多數碳氫化合物對185nm波長的紫外光具有較強的吸收能力，並在吸收185nm波長的紫外光的能量後分解成離子、游離態原子、受激分子和中子，這就是所謂光敏作用。空氣中的氧氣分子在吸收了185nm波長的紫外光後也會產生臭氧和原子氧。臭氧對254nm波長的紫外光同樣具有強烈的吸收作用，臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是極活潑的,在它作用下，物體表面上的碳和碳氫化合物的分解物可化合成可揮發的氣體：二氧化碳和水蒸氣等逸出表面，從而徹底清除了黏附在物體表面上的碳和有機污染物。

清洗時，使基板治濕性向上。玻璃基板是以滾輪方式輸送，上方裝置低壓水銀燈產生紫外線照射。玻璃基板所累積紫外線能量愈多，其表面水接觸愈小，成反比關係。

套用範圍

紫外光清洗技術的套用主要在液晶顯示器件、半導體矽晶片、積體電路、高精度印製電路板、光學器件、石英晶體、密封技術、帶氧化膜的金屬材料等生產過程中採用光清洗方法最為合適。

主要材料：ITO玻璃、光學玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、矽晶片和 帶有氧化膜的金屬等進行精密清洗處理。

可以去除污垢：有機性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚醯亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘餘的光刻膠等。