《磁控濺射用釕靶》是2018年4月1日實施的一項中國國家標準。
基本介紹
- 中文名：磁控濺射用釕靶
- 外文名：Magnetron sputtering ruthenium target
- 標準類別：產品
- 標準號：GB/T 34649-2017
編制進程,起草工作,
編制進程
2017年9月29日，《磁控濺射用釕靶》發布。
2018年4月1日，《磁控濺射用釕靶》實施。
起草工作
主要起草單位：有研億金新材料有限公司、有色金屬技術經濟研究院。
主要起草人：羅俊鋒、丁照崇、李勇軍、向磊、萬小勇、劉書芹、熊曉東、王莊、賀昕、滕海濤、高岩。
