白光干涉顯微鏡

白光干涉顯微鏡(White light Interferenc microscope),是使用光干涉原理來展示物件的內部或表面的顯微鏡。

通過納米垂直掃描器與干涉物鏡使解析度達到 0.1nm,因此套用於3D高精度量測。白光干涉顯微鏡目前在3D檢測領域是精度最高的測量儀器之一,在同等系統放大倍率下檢測精度和重複精度都高於共聚焦顯微鏡和聚焦成像顯微鏡,在一些納米級和亞納米級的超精密加工領域,除了白光干涉儀,其它的儀器無法達到其加工精度要求。

基本介紹

  • 中文名:白光干涉顯微鏡
  • 外文名:White light Interferenc microscope
  • 領域:光學
簡介,干涉 (物理學),掃描電子顯微鏡,參見,

簡介

白光干涉顯微鏡(White light Interferenc microscope),是使用光干涉原理來展示物件的內部或表面的顯微鏡。
通過納米垂直掃描器與干涉物鏡使解析度達到 0.1nm,因此套用於3D高精度量測。白光干涉顯微鏡目前在3D檢測領域是精度最高的測量儀器之一,在同等系統放大倍率下檢測精度和重複精度都高於共聚焦顯微鏡和聚焦成像顯微鏡,在一些納米級和亞納米級的超精密加工領域,除了白光干涉儀,其它的儀器無法達到其加工精度要求。

干涉 (物理學)

干涉(interference)在物理學中,指的是兩列或兩列以上的空間中重疊時發生疊加,從而形成新波形的現象。
例如採用分束器將一束單色光束分成兩束後,再讓它們在空間中的某個區域內重疊,將會發現在重疊區域內的光強並不是均勻分布的:其明暗程度隨其在空間中位置的不同而變化,最亮的地方超過了原先兩束光的光強之和,而最暗的地方光強有可能為零,這種光強的重新分布被稱作“干涉條紋”。在歷史上,干涉現象及其相關實驗是證明光的波動性的重要依據,但光的這種干涉性質直到十九世紀初才逐漸被人們發現,主要原因是相干光源的不易獲得。
為了獲得可以觀測到可見光干涉的相干光源,人們發明製造了各種產生相干光的光學器件以及干涉儀,這些干涉儀在當時都具有非常高的測量精度:阿爾伯特·邁克耳孫就藉助邁克耳孫干涉儀完成了著名的邁克耳孫-莫雷實驗,得到了以太風觀測的零結果。邁克耳孫也利用此干涉儀測得標準米尺的精確長度,並因此獲得了1907年的諾貝爾物理學獎。而在二十世紀六十年代之後,雷射這一高強度相干光源的發明使光學干涉測量技術得到了前所未有的廣泛套用,在各種精密測量中都能見到雷射干涉儀的身影。現在人們知道,兩束電磁波的干涉是彼此振動的電場強度矢量疊加的結果,而由於光的波粒二象性,光的干涉也是光子自身的幾率幅疊加的結果。

掃描電子顯微鏡

掃描電子顯微鏡(英語:Scanning Electron Microscope,縮寫為SEM),簡稱掃描電鏡,是一種電子顯微鏡,其通過用聚焦電子束掃描樣品的表面來產生樣品表面的圖像
電子與樣品中的原子相互作用,產生包含關於樣品的表面測繪學形貌和組成的信息的各種信號。電子束通常以光柵掃描圖案掃描,並且光束的位置與檢測到的信號組合以產生圖像。掃描電子顯微鏡可以實現解析度優於1納米。樣品可以在高真空,低真空,濕條件(用環境掃描電子顯微鏡)以及寬範圍的低溫或高溫下觀察到。
最常見的掃描電子顯微鏡模式是檢測由電子束激發的原子發射的二次電子(secondary electron)。可以檢測的二次電子的數量,取決於樣品測繪學形貌,以及取決於其他因素。通過掃描樣品並使用特殊檢測器收集被發射的二次電子,創建了顯示表面的形貌的圖像。它還可能產生樣品表面的高解析度圖像,且圖像呈三維,鑑定樣品的表面結構。

參見

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