Micro LED Display的顯示原理,是將LED結構設計進行薄膜化、微小化、陣列化,其尺寸僅在1~10μm等級左右;後將μLED批量式轉移至電路基板上(含下電極與電晶體),其基板可為硬性、軟性之透明、不透明基板上;再利用物理沉積製程完成保護層與上電極,即可進行上基板的封裝,完成一結構簡單的Micro LED Display。
故另一種直接利用三原色LED做為自發光顯示畫素的LED Display或Micro LED Display的技術也正在發展中。隨著LED的成熟與演進,LED Display或Micro LED Display自2010年代起開始有著不一樣的面貌呈現。SONY 2012年展示55吋FHD“Crystal LED Display”原型機,系利用表面黏著技術(SMT, surface-mount technology)或COB技術(Chip on board),將LED chip黏著於電路基板上,高達6.2百萬(1920x1080x3)顆LED chip做為高解析的顯示畫素,對比可達百萬比一,色飽和度可達140% NTSC,無反應時間和使用壽命問題。然而在商業化上,仍有不少的成本與技術瓶頸存在,迄今未能量產。
一般的LED chip包含基板和磊晶層(Epitaxy)其厚度約在100~500μm,且尺寸介於100~1000μm。而更進一步正在進行的Micro LED Display研究在於,將LED表面厚約4~5μm磊晶層用物理或化學機制剝離(Lift-off),再移植至電路基板上。其Micro LED Display綜合TFT-LCD和LED兩大技術特點,在材料、製程、設備的發展較為成熟,產品規格遠高於TFT-LCD或OLED,套用領域更為廣泛包含軟性、透明顯示器,為一可行性高的次世代平面顯示器技術。
自2010年後各廠商積極於Micro LED Display的技術整合與開發,然因Micro LED Display尚未有標準的μLED結構、量產製程與驅動電路設計,各廠商其專利布局更是兵家必爭之地。迄2016年止,Luxvue(2014, 5已被Apple併購)、Mikro Mesa、SONY等公司皆已具數量規模的專利申請案,更有為數眾多的公司與研究機構投入相關的技術開發。
顯示原理
Micro LED Display的顯示原理,是將LED結構設計進行薄膜化、微小化、陣列化,其尺寸僅在1~10μm等級左右;後將μLED批量式轉移至電路基板上(含下電極與電晶體),其基板可為硬性、軟性之透明、不透明基板上;再利用物理沉積製程完成保護層與上電極,即可進行上基板的封裝,完成一結構簡單的Micro LED Display。