nf3

nf3，第2.2類有毒氣體，在空氣中的最高允許含量為29mg/m3。

基本介紹

• 中文名：三氟化氮
• 外文名：nf3
• 氣體分子量：71.01
• 熔點：–206.8℃（1atm）
• 沸點：–129℃（1atm）

分子式

NF3：三氟化氮

基本性質

氣體分子量：71.01，熔點：–206.8℃（1atm），沸點：–129℃（1atm），臨界溫度：–39.3℃，臨界壓力：44.02atm（4.46MPa），液體密度：1554 kg/m³（1atm，沸點時），氣體密度：2.95 kg/m³（1atm,21℃），水中溶解度（1atm，22℃）：1.43×10^-5當量濃度。純淨的NF3氣體是一種無色無味的氣體，當混入一定量的雜質氣體後顏色發黃，同時會有發霉或刺激性氣味。NF3氣體不可燃，但能助燃。當溫度超過350℃時，三氟化氮氣體會緩慢分解，分解時產生強氧化性氟，因此，在高溫下它是一種強氧化劑。

CAS No.：7783-54-2。

UN UN.：2451

產品包裝

47L專用鋼瓶,22kg/瓶;40L專用鋼瓶,20kg/瓶;8L專用鋼瓶,3.4kg/瓶;鋼瓶標準：DOT-3AA, GB5099；閥門：CGA330、CGA640

產品用途

三氟化氮是用作氟化氫－氟化氣高能化學雷射器的氟源，在h2-O2 與F2之間反應能的有效部分（約25%）可以以雷射輻射釋放出，所HF-OF雷射器是化學雷射器中最有希望的雷射器。三氟化氮是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體，對矽和氮化矽蝕刻，採用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對表面無污染，尤其是在厚度小於1.5um的積體電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時也是非常良好的清洗劑。隨著納米技術的發展和電子工業大規模的發展技術，它的需求量將日益增加。

注意事項

如遇有NF3氣體泄露，工作人員要馬上撤離泄漏污染區，並儘可能採取措施阻止NF3氣體的進一步泄露。如有工作人員中毒，應立即送往醫院救治。泄露現場要儘快處理，處理泄露現場的工作人員必須配戴必要的防毒面具，最好是自給正壓式呼吸器。泄露現場經檢測無危害氣體後方可進入工作人員，泄露容器必須經仔細檢查、維修或妥善處理好後方可繼續使用。NF3氣瓶應儲存於陰涼、通風倉庫內，倉庫溫度不宜超過30℃。NF3氣瓶應遠離火種、熱源、防止陽光直射，與還原劑、易燃或可燃物等分開存放。NF3氣瓶在搬運時要輕裝、輕卸，防止鋼瓶及附屬檔案破損。NF3氣瓶的運輸按危險品運輸。運輸時用氣瓶固定架將NF3氣瓶固定好，用汽車公路運輸或用輪船貨櫃運輸。