EDIF

EDIF是電子設計交換格式(Electronic Design Interchange Format)的英文字頭縮寫。EDIF綜合了多種格式中的最佳特性,1985年的EDIF100版本提供了門陣列、半導體積體電路設計和布線自動化交換信息的格式,而後的EDIF200版本是不同EDA廠家之間交換設計數據的標準格式。

基本介紹

  • 中文名:電子設計交換格式
  • 外文名:Electronic Design Interchange Format
  • 簡稱:EDIF
  • 包含:一系列的庫(libraries)
簡介,檔案結構,發展歷史,實現轉換原理,

簡介

EDIF是電子設計交換格式(Electronic Design Interchange Format)的英文字頭縮寫。EDIF綜合了多種格式中的最佳特性,1985年的EDIF100版本提供了門陣列、半導體積體電路設計和布線自動化交換信息的格式,而後的EDIF200版本是不同EDA廠家之間交換設計數據的標準格式。CAD框架標準解決的是不同EDA廠家工具集成和實時通信問題,EDIF格式解決的是用不同EDA廠家工具完成設計的數據交流問題。

檔案結構

EDIF檔案整體結構如下:
(edif name
(status information)
(design where-to-find-them)
(external reference-libraries)
(library name
(technology defaults)
(cell name
(viewmap map)
(view type name
(interface external)
(contents internal)
由這個結構可見:EDIF檔案包含一系列的庫(libraries),每個庫包含一系列的單元(cells),每個單元具有1個或多個視圖(views)。
視圖使用原理圖(Schematic)、版圖(layout)、行為(Behaviour)和文檔(Document)等格式(View Type)來描述。每個視圖具有一個接口(interface)和一個內容(contents),通過它們來清晰定義視圖。Cell單元還通過(view map)屬性和其他View視圖相連。

發展歷史

LPM(Library of Parameterized Modules),就一定要談談EDIF(Electronic Design Interchange Format)。EDIF檔案是EDA廠商之間和EDA廠商與IC廠商之間傳遞設計信息的檔案格式。LPM最初是作為EDIF標準的附屬檔案出現的。
EDIF和LPM的標準化過程:
1988年,ANSI/EIA-548: Electronic Design Interchange Format (EDIF), Version 2.0.0。
1990年,LPM標準提出,供EIA審核。
1993年,EIA 618: Electronic Design Interchange Format (EDIF) Version 3 0 0 Level 0 Reference Manual,LPM作為EDIF標準的附屬檔案,成為EIA的一個過渡標準。
1995年,EIA PN 3714: Library of Parameterized Modules (LPM) Version 201。
1996年,EIA-682: EDIF Version 400 (EIA-682-96) Electronic Design Interchange Format。
1999年,EIA/IS-103A: Library of Parameterized Modules (LPM) Version 2.0。
從年代上看來,88年到90年前後恰好是半定製設計風格超越全定製設計風格,成為VLSI晶片設計主流的時期。LPM標準的提出可能正是回響了半定製設計的需求。

實現轉換原理

EDIF檔案是EDA工具之間傳遞信息的標準格式。畫過電路原理圖和PCB的朋友一定知道,原理圖檔案繪製完畢後需要“生成網表”,進行 PCB布局布線之前先要“引入網表”,這樣才能建立原理圖檔案和PCB檔案之間的“邏輯映射關係”。EDIF檔案就是網表檔案的一種格式。在很多情況下, 原理圖檔案中的模組圖形和PCB檔案中的“封裝”是一一對應的,這種“物理映射關係”就是通過“庫檔案”建立的。“庫檔案”包含了原理圖模組的名稱和圖 形,也包含了封裝檔案的名稱和圖形,這樣一來,“物理映射關係”就建立起來了。在不同的EDA工具之間,比如Protel和Cadence還有PowerPCB,邏輯映射關係是很容易互相通用的,但是由於支持不同的“庫檔案”,物理映射關係往往就建立不起來。
在IC設計領域(包括PLD設計),EDIF檔案就遇到了類似的問題:綜合工具和實現工具必須達成一致。在LPM標準提出之前,這一點很難實現,畢竟IC設計領域存在太多的實現工藝和EDA工具。
在LPM標準提出之前,對於某些邏輯的描述沒有統一的標準,描述方法都是工藝相關(Technology dependent)的,所以綜合工具生成的EDIF檔案不具備可移植性。在採用了LPM標準之後,對於LPM庫中包含的邏輯,所有的綜合工具都採用同一 種行為描述方法,生成相同的EDIF檔案,實現設計輸入和網表的正確映射;實現工具包含各自工藝庫與LPM庫之間的唯一映射關係,從而能夠“讀懂”包含 LPM描述的EDIF檔案,實現網表和工藝實現之間的正確映射。這樣一來,EDIF檔案在不同的實現工具之間移植就不成問題了。(LPM並不是唯一的解決 方法,比如現在的EDA工具之間往往互相支持對方特定的庫檔案和網表格式,尤其像Synplicity這樣的專業EDA公司,同時支持許多公司的器件和網 表格式和宏單元;而Altera和Xinlinx就不能互相支持)
在這一過程中體現的原理是:通過增加一個映射層次,把一次映射關係轉化為兩次映射關係,兩次映射關係的中介——包含LPM描述的EDIF檔案——就具備了可移植性。

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