電子束離子源,是指用高電流密度的電子束使約束在電場位壘內的離子進一步電離從而產生高電荷態離子的裝置。
基本介紹
- 中文名:電子束離子源
- 外文名:electron-beam ion source
- 簡寫:EBIS
- 結構:電子槍、線圈、放電室、電極
- 提出時間:1967年
- 性能:獲得電荷態最高的多電荷源
電子束離子源,是指用高電流密度的電子束使約束在電場位壘內的離子進一步電離從而產生高電荷態離子的裝置。
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