電子工業用試劑

電子工業用試劑,電子工業範圍廣,所用材料品種繁多。特別是半導體工業、微電子工業的發展,所用化學試劑也隨之迅速發展。自從矽平面工藝建立後,半導體工業獲得飛速進展,其中一個重要的原因就是不斷開發先進技術和相應的各種新型試劑。

基本介紹

  • 中文名:電子工業用試劑
  • 外文名:chemicals for electronic industry
  • 性質:化學試劑
  • 用於:半導體工業、微電子工業
光刻膠,高純試劑,液晶,

光刻膠

又稱光致抗蝕劑,隨著半導體電路向超高頻、高可靠、高集成方向發展。利用光刻工藝刻蝕各種精密的線條一般為 12~1μm,正在研究 0.5μm,越來越細。用作抗蝕塗層的光刻膠是光刻工藝中的關鍵材料,要求光刻膠的性能、質量也越來越高。因此,在微電子工業中光刻膠是研究、競爭相當活躍的領域。在美國,1982~1986年間光刻膠的銷售額年平均增長約14%。
近年來,不斷研究感光性樹脂、感光劑的結構和曝光光源的改進,以提高分辨精度和耐腐蝕等性能,適應微電子工業向超大規模積體電路的發展。

高純試劑

又稱高純化學品,它的套用,貫穿於整個電路生產的工藝過程中。它的質量對控制沾污,提高積體電路成品率,起著重要作用。主要包括兩類:第一類在制半導體器件和積體電路生產中,除高純單晶和超純氣體外, 並要有控制地摻入適量的雜質元素,以使之具有所需要的電性能。這種摻入的雜質稱為摻入劑,主要是砷、磷、硼的化合物,如三氧化二砷、三氯化磷、三氯氧磷、三溴化硼、砷烷、磷烷、硼烷等。這類試劑純度很高,一般金屬元素雜質要控制在0.1~0.001ppm,非金屬元素雜質控制在0.1ppm以下。第二類在蝕刻過程中用於清洗、顯影、腐蝕、去膜等工序。這類試劑包括硫酸、鹽酸、硝酸、氫氟酸、過氧化氫等無機物和丙酮、甲醇等10多種有機溶劑。隨著 MOS(金屬-氧化物-半導體)電路的出現,特別是大規模及超大規模積體電路的發展,對高純試劑的純度和淨度要求也越來越高,除在純度上要求金屬元素的雜質控制在ppb級,非金屬元素達到0.1ppm的水平外,對塵埃粒度也有一定的要求,目前最高要求為: 100ml的液體中,2μm以上的顆粒不超過100個或300個。根據積體電路的集成度不同,有不同的質量標準。
為了適應高純和超淨的質量要求,生產這些試劑的某些工序,要在100級的超淨環境下進行。所用的高純水,產品容器的清洗、分裝、包裝以及產品的貯存等工序都有一套相應的超淨技術,以防止塵埃侵入產品。80年代這類試劑在中國的生產規模為數百噸,電子工業發達的國家已達萬噸規模。

液晶

是電子工業中另一種新型材料。液晶的套用已有十多年的歷史,現在主要套用於電子工業。

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